Ceramic heaters

Sa proseso ng front-end (FEOL) ng semiconductor manufacturing, angwaferneeds to be subjected to various process treatments, especially the wafer needs to be heated to a certain temperature, and there are strict requirements, because the uniformity of temperature has a very important impact on the product yield; Kasabay nito, ang kagamitan sa semiconductor ay kailangang magtrabaho sa pagkakaroon ng vacuum, plasma at kemikal na gas, na nangangailangan ng paggamit ng mga ceramic heaters.Ceramic heatersay mga mahahalagang sangkap ng semiconductor manipis na kagamitan sa pag -aalis ng pelikula. Ginagamit ang mga ito sa proseso ng silid at direktang makipag -ugnay sa wafer upang dalhin at paganahin ang wafer upang makakuha ng isang matatag at pantay na temperatura ng proseso at upang umepekto nang may mataas na katumpakan sa ibabaw ng wafer upang makabuo ng mga manipis na pelikula.

Dahil ang manipis na kagamitan sa pag -aalis ng pelikula na ginagamit ng mga ceramic heaters ay nagsasangkot ng mataas na temperatura, ang mga ceramic na materyales na pangunahing batay sa aluminyo nitride (ALN) ay karaniwang ginagamit. Dahil ang aluminyo nitride ay may elektrikal na pagkakabukod at mahusay na thermal conductivity; Bilang karagdagan, ang koepisyentong pagpapalawak ng thermal ay malapit sa silikon, at mayroon itong mahusay na paglaban sa plasma, angkop ito para magamit bilang isang sangkap na kagamitan sa semiconductor.

Ang mga electrostatic chuck (ESC) ay pangunahing ginagamit sa mga kagamitan sa etching, pangunahin ang aluminyo oxide (AL2O3). Dahil ang electrostatic chuck mismo ay naglalaman din ng isang pampainit, na kumukuha ng dry etching bilang isang halimbawa, kinakailangan upang makontrol ang wafer sa isang tiyak na temperatura sa saklaw ng -70 ℃ ~ 100 ℃ upang mapanatili ang isang tiyak na katangian ng etching. Samakatuwid, ang wafer ay kailangang maiinit o mawala ng electrostatic chuck upang tumpak na makontrol ang temperatura ng wafer. Bilang karagdagan, upang matiyak ang pagkakapareho ng ibabaw ng wafer, ang electrostatic chuck ay madalas na kailangang dagdagan ang temperatura control zone upang makontrol ang temperatura ng bawat temperatura control zone nang hiwalay upang mapagbuti ang ani ng proseso. Siyempre, sa pag -unlad ng teknolohiya, ang pagkakaiba sa pagitan ng tradisyonal na mga heaters ng ceramic at electrostatic chuck ay nagsimulang maging malabo. Ang ilang mga ceramic heaters ay may dalawahang pag-andar ng high-temperatura na pag-init at electrostatic adsorption.

Ang ceramic heater ay nagsasama ng isang ceramic base na nagdadala ng wafer at isang cylindrical na suporta sa katawan na sumusuporta dito sa likuran. Sa loob o sa ibabaw ng base ng ceramic, bilang karagdagan sa elemento ng paglaban (layer ng pag -init) para sa pag -init, mayroon ding isang dalas ng radyo (radio frequency layer). Upang makamit ang mabilis na pag -init at paglamig, ang kapal ng ceramic base ay dapat na manipis, ngunit masyadong manipis ay mababawasan din ang katigasan. Ang suporta sa katawan ng pampainit ay karaniwang gawa sa isang materyal na may isang koepisyentong pagpapalawak ng thermal na katulad ng sa base, kaya ang suporta sa katawan ay madalas na gawa din ng aluminyo nitride. Ang pampainit ay nagpatibay ng isang natatanging istraktura ng isang shaft (shaft) na kasukasuan sa ilalim, na maaaring maprotektahan ang mga terminal at mga wire mula sa mga epekto ng plasma at kinakaing unti -unting mga gas ng kemikal. Ang isang heat conduction gas inlet at outlet pipe ay ibinibigay sa katawan ng suporta upang matiyak ang pantay na temperatura ng pampainit. Ang base at ang katawan ng suporta ay chemically bonded sa isang bonding layer.

Nag-aalok ang Semicorex ng mataas na kalidadceramic heaters. Kung mayroon kang anumang mga katanungan o nangangailangan ng karagdagang mga detalye, mangyaring huwag mag -atubiling makipag -ugnay sa amin.

Makipag-ugnay sa Telepono # +86-13567891907

Email: sales@semicorex.com