China CVD Furnace Mga Manufacturer, Supplier, Factory

Mga CVD furnace na ginagamit para sa proseso ng chemical vapor deposition (CVD). Ang chemical vapor deposition ay isang proseso kung saan ang isang manipis na pelikula ay idineposito sa isang substrate gamit ang isang kemikal na reaksyon sa pagitan ng mga vaporized precursor gas at isang pinainit na ibabaw.

Ang mga CVD furnace ay karaniwang binubuo ng isang vacuum chamber, isang sistema ng paghahatid ng gas, isang heating system, at isang substrate holder. Ang vacuum chamber ay ginagamit upang alisin ang hangin at iba pang mga gas mula sa kapaligiran ng deposition upang maiwasan ang mga impurities na makasagabal sa proseso ng pag-deposition. Ang sistema ng paghahatid ng gas ay naghahatid ng mga precursor na gas sa ibabaw ng substrate kung saan sila ay nagre-react upang mabuo ang nais na manipis na pelikula. Pinapainit ng sistema ng pag-init ang substrate sa kinakailangang temperatura para maganap ang reaksyon. Ang substrate holder ay ginagamit upang hawakan ang substrate sa lugar sa panahon ng proseso ng pag-deposition.

Sa proseso ng CVD, ang mga precursor gas ay ipinapasok sa vacuum chamber at pinainit sa isang temperatura kung saan sila nabubulok at nagre-react upang bumuo ng manipis na pelikula sa pinainit na substrate. Ang temperatura at presyon ng kapaligiran ng pag-aalis ay maingat na kinokontrol upang matiyak na ang nais na mga katangian ng pelikula ay nakakamit.

Ang mga CVD furnace ay malawakang ginagamit sa industriya ng semiconductor upang magdeposito ng mga manipis na pelikula para sa paggawa ng mga microelectronic device, tulad ng mga integrated circuit at solar cell. Ginagamit din ang mga ito sa paggawa ng mga advanced na materyales, tulad ng mga coatings, optical fibers, at superconductor.