China Specialty Graphite Mga Manufacturer, Supplier, Factory

Ang Specialty Graphite ay isang uri ng artipisyal na grapayt na naproseso. Ito ay isang mahalagang materyal na kailangang -kailangan sa lahat ng aspeto ng semiconductor at proseso ng paggawa ng photovoltaic, kabilang ang paglaki ng kristal, pagtatanim ng ion, epitaxy, atbp.

1. Silicon Carbide (SIC) Crystal Growth

Ang Silicon Carbide, bilang isang third-generation semiconductor material, ay malawakang ginagamit sa mga bagong sasakyan ng enerhiya, 5G komunikasyon, at iba pang mga larangan. Sa 6-pulgada at 8-pulgada na proseso ng paglago ng kristal ng SIC, ang isostatic grapayt ay pangunahing ginagamit upang gumawa ng mga sumusunod na pangunahing sangkap:

Graphite Crucible: Maaari itong magamit upang synthesize ang sic powder feedstock at makakatulong din sa paglaki ng kristal sa mataas na temperatura. Ang mataas na kadalisayan, paglaban ng mataas na temperatura, at paglaban ng thermal shock ay matiyak ang isang matatag na kapaligiran ng paglago ng kristal.

Graphite Heater: Nagbibigay ito ng pantay na pamamahagi ng init, tinitiyak ang mataas na kalidad na paglago ng kristal na SIC.

Insulation Tube: Pinapanatili nito ang pagkakapareho ng temperatura sa loob ng hurno ng paglago ng kristal at binabawasan ang pagkawala ng init.

2. Ion Implantation

Ang pagtatanim ng ion ay isang pangunahing proseso sa pagmamanupaktura ng semiconductor. Ang isostatic grapayt ay pangunahing ginagamit upang gumawa ng mga sumusunod na sangkap sa ion implanters:

Graphite Getter: Ang sumisipsip ng mga ion ng karumihan sa ion beam, tinitiyak ang kadalisayan ng ion.

Graphite Focusing Ring: Nakatuon ito sa ion beam, pagpapabuti ng kawastuhan at kahusayan ng Ion Implant. Graphite substrate trays: ginamit upang suportahan ang mga wafer ng silikon at mapanatili ang katatagan at pagkakapare -pareho sa panahon ng pagtatanim ng ion.

3. Proseso ng Epitaxy

Ang proseso ng epitaxy ay isang kritikal na hakbang sa pagmamanupaktura ng aparato ng semiconductor. Ang isostatically press grapayt ay pangunahing ginagamit upang gumawa ng mga sumusunod na sangkap sa mga hurno ng epitaxy:

Mga Graphite tray at Sinistors: Ginamit upang suportahan ang mga wafer ng silikon, na nagbibigay ng matatag na suporta at pantay na pagpapadaloy ng init sa panahon ng proseso ng epitaxy.

4. Iba pang mga aplikasyon ng pagmamanupaktura ng semiconductor

Ang Isostatically Pressed Graphite ay malawakang ginagamit sa mga sumusunod na aplikasyon ng pagmamanupaktura ng semiconductor:

Proseso ng Etching: Ginamit upang gumawa ng mga grapayt na electrodes at mga proteksiyon na sangkap para sa mga etcher. Ang pagtutol ng kaagnasan at mataas na kadalisayan ay matiyak ang katatagan at katumpakan sa proseso ng etching.

Chemical Vapor Deposition (CVD): Ginamit upang gumawa ng mga grapayt na tray at heaters sa loob ng mga hurno ng CVD. Ang mataas na thermal conductivity at mataas na temperatura na pagtutol ay matiyak ang pantay na manipis na pag-aalis ng pelikula.

Pagsubok sa Packaging: Ginamit upang gumawa ng mga fixtures ng pagsubok at mga tray ng carrier. Ang mataas na katumpakan at mababang kontaminasyon ay matiyak ang tumpak na mga resulta ng pagsubok.

Mga bentahe ng mga bahagi ng grapayt

Mataas na kadalisayan:

Gamit ang mataas na kadalisayan ay pinindot ang materyal na grapayt na may sobrang mababang nilalaman ng karumihan, natutugunan nito ang mahigpit na mga kinakailangan sa kadalisayan ng materyal ng paggawa ng semiconductor. Ang sariling pugon ng paglilinis ng kumpanya ay maaaring linisin ang grapayt sa ibaba 5ppm.

Mataas na katumpakan:

Sa pamamagitan ng advanced na kagamitan sa pagproseso at teknolohiya sa pagproseso ng mature, tinitiyak nito na ang dimensional na katumpakan ng produkto at form at pagpapahintulot sa posisyon ay umabot sa antas ng micron.

Mataas na pagganap:

Ang produkto ay may mahusay na mataas na paglaban sa temperatura, paglaban ng kaagnasan, paglaban sa radiation, mataas na thermal conductivity at iba pang mga pag -aari, na nakakatugon sa iba't ibang mga malupit na kondisyon ng pagtatrabaho ng paggawa ng semiconductor.

Customized Service:

Ang mga na -customize na disenyo ng produkto at pagproseso ay maaaring maibigay ayon sa mga pangangailangan ng customer upang matugunan ang mga pangangailangan ng iba't ibang mga sitwasyon ng aplikasyon.

Mga uri ng mga produktong grapayt

(1) Isostatic Graphite
Ang mga produktong grapayt ng Isostatic ay ginawa ng malamig na pagpindot ng isostatic. Kung ikukumpara sa iba pang mga pamamaraan ng pagbubuo, ang mga crucibles na ginawa ng prosesong ito ay may mahusay na katatagan. Ang mga produktong grapayt na kinakailangan para sa SIC solong mga kristal ay lahat ng malaki sa laki, na hahantong sa hindi pantay na kadalisayan sa ibabaw at sa loob ng mga produktong grapayt, na hindi matugunan ang mga kinakailangan sa paggamit. Upang matugunan ang malalim na mga kinakailangan sa paglilinis ng mga malalaking sukat na mga produktong grapayt na kinakailangan para sa mga solong kristal ng SIC, ang isang natatanging proseso ng paglilinis ng thermochemical thermochemical pulse ay dapat na pinagtibay upang makamit ang malalim at pantay na paglilinis ng mga malalaking laki o espesyal na hugis na grapayt na produkto, upang ang kadalisayan ng ibabaw ng produkto at core ay maaaring matugunan ang mga kinakailangan sa paggamit.

(2) Porous Graphite
Ang porous grapayt ay isang uri ng grapayt na may mataas na porosity at mababang density. Sa proseso ng paglago ng kristal ng SIC, ang porous grapayt ay gumaganap ng isang mahalagang papel sa pagpapabuti ng pagkakapareho ng paglipat ng masa, binabawasan ang paglitaw ng rate ng pagbabago ng phase at pagpapabuti ng hugis ng kristal.
Ang paggamit ng porous grapayt ay nagpapabuti sa temperatura at pagkakapareho ng temperatura ng hilaw na materyal na lugar, pinatataas ang pagkakaiba ng axial temperatura sa crucible, at mayroon ding isang tiyak na epekto sa pagpapahina ng recrystallization ng hilaw na materyal na ibabaw; Sa silid ng paglago, ang porous grapayt ay nagpapabuti sa katatagan ng daloy ng materyal sa buong proseso ng paglago, pinatataas ang ratio ng C/Si ng lugar ng paglago, ay tumutulong upang mabawasan ang posibilidad ng pagbabago ng phase, at sa parehong oras, ang porous grapayt ay gumaganap din ng isang papel sa pagpapabuti ng interface ng kristal.

(3) nadama
Ang malambot na nadama at mahirap ay nadama kapwa naglalaro ng papel ng mga mahahalagang thermal pagkakabukod ng mga materyales sa paglaki ng kristal ng SIC at mga link ng epitaxial.

(4) Graphite foil
Ang grapayt na papel ay isang functional na materyal na ginawa mula sa high-carbon flake grapayt sa pamamagitan ng paggamot sa kemikal at pag-ikot ng mataas na temperatura. Mayroon itong mataas na thermal conductivity, electrical conductivity, kakayahang umangkop, at paglaban sa kaagnasan.

(5) Mga pinagsama -samang materyales
Ang larangan ng carbon-carbon thermal ay isa sa mga pangunahing consumable sa photovoltaic solong paggawa ng kristal na hurno.

Produksyon ng Semicorex

Ang Semicorex ay gumawa ng grapayt na may maliit na batch, na-customize na mga pamamaraan ng paggawa. Ang produksiyon ng maliit na batch ay ginagawang mas makokontrol ang mga produkto. Ang buong proseso ay kinokontrol ng mga programmable logic controller (PLC), naitala ang detalyadong data ng proseso, na nagpapagana ng kumpletong pagsubaybay sa lifecycle.

Sa panahon ng buong proseso ng litson, ang pagkakapare -pareho na nakamit sa resistivity sa iba't ibang mga lokasyon, at pinananatili ang mahigpit na kontrol sa temperatura. Tinitiyak nito ang homogeneity at pagiging maaasahan ng mga materyales sa grapayt.

Ginagamit ng Semicorex ang ganap na teknolohiya ng pagpindot ng isostatic, na naiiba sa iba pang mga supplier; Nangangahulugan ito na ang grapayt ay ultra uniporme mismo at napatunayan lalo na mahalaga sa mga proseso ng epitaxial. Ang komprehensibong mga pagsubok sa uniporme ng materyal ay isinasagawa, kabilang ang density, resistivity, tigas, baluktot na lakas, at lakas sa iba't ibang mga sample.