Bakit malawak na pinuri ang isostatic grapayt sa merkado ng mga materyales?

Likas na mga depekto ng ordinaryong grapayt:

Ang ordinaryong grapayt ay binubuo ng isang layered na istraktura, kung saan mahina ang lakas ng pagbubuklod sa pagitan ng mga layer ng carbon atom, habang ang mga bono sa loob ng bawat layer ay napakalakas. Ang istraktura na ito ay nagiging sanhi ng pagkakaroon ng mga "anisotropic" na mga katangian, na nililimitahan ang aplikasyon ng ordinaryong grapayt sa mga patlang na katumpakan.

AnoIsostatic grapayt?

Ang Isostatic Graphite ay isang uri ng artipisyal na specialty grapayt na ginawa sa pamamagitan ng paggamit ng teknolohiyang pagpindot sa isostatic. Ang pangunahing prinsipyo ng pagmamanupaktura nito ay ang pantay na mag -aplay ng mataas na presyon mula sa lahat ng mga direksyon upang hubugin ang grapayt na pulbos, sa gayon nakakakuha ng isa sa mga pinaka -isotropic artipisyal na grapayt. 

Kumpara sa iba pang mga teknolohiya, ang grapayt na ginawa ng teknolohiyang ito ay may maraming mga pangunahing pagbabago:

1.Ang density hanggang sa 1.9g /cm³ at pinahusay na pagkakapareho ng density (paglihis ng density <0.02g /cm³).

2.Increased lakas, baluktot na lakas hanggang sa 75Mpa.

3.Better thermal conductivity at pantay na thermal conductivity.

4.Excellent conductivity, ang resistivity ay 5-10μΩ · m lamang.

5.Excellent thermal shock resistance at mababang thermal pagpapalawak ng koepisyent, sa (2.5-4.5) × 10⁻⁶/℃.

6.High kadalisayan: nilalaman ng nilalaman ng abo <5 ppm.

Ang application ng isostatic grapayt

Ang isostatic grapayt ay inilalapat sa maraming iba't ibang mga industriya at sumasakop sa isang malaking bahagi ng merkado.

1. Photovoltaic: Single Crystal Furnace Thermal Field System,Krus, pampainit, pagkakabukodsilindro, amag,Graphite Boatat iba pang mga pangunahing sangkap.

2. Semiconductor: Single Crystal Silicon Growth Furnace Thermal Field sa Wafer Fabrication,Wafer Carrierssa proseso ng pagsasabog/oksihenasyon,Mga sangkap ng elektrodng mga kagamitan sa etching, attagagawaPara sa paglaki ng epitaxial.

3. Nuclear Energy: Mga pangunahing sangkap ng ika-apat na henerasyon na high-temperatura na gas-cooled reaktor (tulad ng reflector grapayt bricks, fuel ball, atbp.), Sealing singsing at mga sangkap na nagdadala sa tradisyonal na mga pressurized na reaktor ng tubig.

4. Aerospace: Rocket Nozzle, Mataas na Mga Komponent na Lumalaban sa Temperatura, atbp.