Iba't ibang mga aplikasyon ng quartz sa paggawa ng semiconductor

Sa unang tingin,materyal na kuwarts (SiO2).mukhang halos katulad ng salamin, ngunit ang espesyal ay ang ordinaryong baso ay binubuo ng maraming bahagi (tulad ng quartz sand, borax, boric acid, barite, barium carbonate, limestone, feldspar, soda ash, atbp.), habang ang quartz ay naglalaman lamang ng Ang SiO2, at ang microstructure nito ay isang simpleng network na binubuo ng silicon dioxide tetrahedral structural units.

Dahil ang dami ng metal impurities na nakapaloob sakuwartsay napakaliit at ang kadalisayan nito ay napakataas, ang kuwarts mismo ay may mga katangian at pakinabang na hindi maipakita ng ibang mga baso, at kilala bilang "korona" ng mga materyales na salamin. Halimbawa, sa mga tuntunin ng paglaban sa init, ang kuwarts ay hindi sasabog kahit na agad itong ilagay sa tubig pagkatapos masunog na pula sa apoy. Ang mas tiyak na mga pakinabang ay ang mga sumusunod:

1. Mataas na pagtutol sa temperatura. Ang softening point ng quartz glass ay humigit-kumulang 1730 ℃, at maaari itong magamit nang mahabang panahon sa 1150 ℃, at ang pinakamataas na temperatura ay maaaring umabot sa 1450 ℃ sa maikling panahon.

2. paglaban sa kaagnasan. Maliban sa hydrofluoric acid, ang high-purity quartz ay halos walang kemikal na reaksyon sa iba pang mga acid substance. Sa mataas na temperatura, maaari itong labanan ang kaagnasan mula sa sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, aqua regia, neutral salts, carbon at sulfur. Ang acid resistance nito ay 30 beses kaysa sa mga keramika at 150 beses sa hindi kinakalawang na asero. Lalo na ang katatagan ng kemikal nito sa mataas na temperatura ay hindi mapapantayan ng anumang iba pang materyales sa engineering.

3. Magandang thermal stability. Ang high-purity quartz ay may napakaliit na koepisyent ng pagpapalawak ng thermal at makatiis ng matinding pagbabago sa temperatura. Kapag ang high-purity quartz ay pinainit sa humigit-kumulang 1100°C, hindi ito sasabog kapag inilagay sa tubig na may temperatura ng silid.

4. Magandang light transmittance. Ang high-purity quartz ay may magandang light transmittance sa buong spectrum mula sa ultraviolet hanggang infrared, at ang visible light transmittance ay higit sa 93%, lalo na sa ultraviolet spectrum region, ang maximum na transmittance ay maaaring umabot ng higit sa 80%.

5. Magandang pagganap ng pagkakabukod ng kuryente. Ang halaga ng paglaban ng high-purity quartz ay katumbas ng 10,000 beses kaysa sa ordinaryong quartz glass. Ito ay isang mahusay na electrical insulation material at may magandang electrical properties kahit na sa mataas na temperatura.

Salamat sa mahusay na pisikal at kemikal na mga katangian, ang mataas na kadalisayan na mga materyales ng kuwarts ay malawakang ginagamit sa modernong elektronikong teknolohiya, semiconductors, komunikasyon, mga mapagkukunan ng ilaw ng kuryente, enerhiya ng solar, mga instrumento sa pagsukat ng pambansang pagtatanggol na may mataas na katumpakan, mga instrumentong pisikal at kemikal sa laboratoryo, enerhiyang nuklear, nano-industriya, atbp. Sa partikular, sa mabilis na umuunlad na industriya ng semiconductor, ang laki ng mga wafer ng silikon ay tumataas, kaya ang mga tagagawa ng chip ay may malaking pangangailangan para sa iba't ibang bahagi ng quartz. Gayunpaman, dapat ding tandaan na upang maiwasan ang kontaminasyon sa panahon ng proseso ng pagproseso, ang mataas na kadalisayan ng materyal na kuwarts ay dapat matiyak habang ginagamit.

Sa industriya ng semiconductor,kuwartsay malawakang ginagamit, at ang mga produktong high-purity na quartz ay mahalagang mga consumable sa paggawa ng wafer. Ang mga bahagi ng quartz tulad ng mga crucibles, crystal boat, at diffusion furnace core tubes na ginagamit upang makagawa ng silicon single crystals ay dapat gumamit ng high-purity quartz glass na produkto. Ang pangunahing target na market application ng quartz parts sa semiconductor field ay ang diffusion at etching process sa wafer foundry. Ang mga ito ay maaaring nahahati sa dalawang kategorya: mga high-temperature zone device at low-temperature zone device. Ang mga pangunahing aparato na ginamit ay ang mga sumusunod:

1. Ang mga high-temperature zone device ay pangunahing mga furnace tube, glass boat, atbp. na ginagamit sa diffusion oxidation at iba pang mga link, na kailangang direkta o hindi direktang nakikipag-ugnayan sa mga silicon na wafer sa isang mataas na temperatura na kapaligiran; ang mga ito ay pangunahing binibili ng fused quartz glass na materyales at ginawa sa pamamagitan ng thermal processing;

2. Ang mga low-temperature zone device ay pangunahing kinabibilangan ng mga quartz ring na ginagamit sa proseso ng pag-ukit, pati na rin ang mga basket ng bulaklak at mga tangke ng paglilinis na ginagamit sa proseso ng paglilinis. Ang mga ito ay pangunahing ginagamit sa mababang temperatura na mga kapaligiran. Pangunahing binibili nila ang gas-refined quartz glass at ginawa sa pamamagitan ng malamig na pagproseso.

Nag-aalok ang Semicorex ng mataas na kalidadmga bahagi ng kuwartssa antas ng semiconductor. Kung mayroon kang anumang mga katanungan o kailangan ng karagdagang mga detalye, mangyaring huwag mag-atubiling makipag-ugnayan sa amin.

Makipag-ugnayan sa telepono # +86-13567891907

Email: sales@semicorex.com