Ang MOCVD ay ang pangunahing kagamitan

Ang kagamitan ng MOCVD ay ang pangunahing kagamitan sa proseso ng produksyon ng industriya ng semiconductor, ngunit isang malaking proporsyon din ng pamumuhunan ng kagamitan sa chain ng industriya ng semiconductor (tatlong pangunahing proseso at kagamitan: lithography, etching, thin film deposition), LED production line investment, MOCVD ang halaga ng pamumuhunan ay maaaring umabot ng hanggang 50%. Sa kagamitan ng CVD, ang substrate ay hindi maaaring ilagay nang direkta sa metal o simpleng ilagay sa ibabaw ng isang base para sa epitaxial deposition, dahil ito ay nagsasangkot ng impluwensya ng iba't ibang mga kadahilanan tulad ng direksyon ng daloy ng gas (pahalang, patayo), temperatura, presyon, pag-aayos. , pagbuhos ng mga kontaminant. Samakatuwid, ang isang base ay ginagamit at ang substrate ay inilalagay sa isang disk at pagkatapos ay ang epitaxial deposition ay ginaganap sa ibabaw ng substrate gamit ang teknolohiyang CVD. Ang base na ito ay ang SiC-coated graphitesusceptor(na maaari ding tawaging acarrier), at ang istraktura nito ay ipinapakita sa figure sa ibaba.