6'' Wafer Carrier para sa Aixtron G5

Ang Semicorex 6'' Wafer Carrier para sa Aixtron G5, na kadalasang tinutukoy bilang mga susceptor, ay gumaganap ng mahalagang papel sa pamamagitan ng ligtas na paghawak sa mga semiconductor wafer sa panahon ng pagproseso ng mataas na temperatura. Tinitiyak ng mga susceptor na ang mga wafer ay mananatili sa isang nakapirming posisyon, na mahalaga para sa pare-parehong pag-deposito ng layer:

Pamamahala ng Thermal:

Ang 6'' Wafer Carrier para sa Aixtron G5 ay idinisenyo upang magbigay ng pare-parehong pag-init at paglamig sa ibabaw ng wafer, na mahalaga para sa mga proseso ng paglago ng epitaxial na ginagamit upang lumikha ng mga de-kalidad na layer ng semiconductor.

Epitaxial Growth:

Mga Layer ng SiC at GaN:

Ang Aixtron G5 platform ay pangunahing ginagamit para sa epitaxial growth ng SiC at GaN layers. Ang mga layer na ito ay pangunahing sa paggawa ng high-electron-mobility transistors (HEMTs), LEDs, at iba pang advanced na semiconductor device.

Katumpakan at Pagkakapareho:

Ang mataas na katumpakan at pagkakapareho na kinakailangan sa proseso ng paglago ng epitaxial ay pinadali ng mga natatanging katangian ng 6'' Wafer Carrier para sa Aixtron G5. Tumutulong ang carrier na makamit ang mahigpit na kapal at pagkakapareho ng komposisyon na kailangan para sa mga high-performance na semiconductor na device.

Mga Benepisyo:

Katatagan ng Mataas na Temperatura:

Extreme Temperature Tolerance:

Ang 6'' Wafer Carrier para sa Aixtron G5 ay kayang tiisin ang napakataas na temperatura, kadalasang lumalampas sa 1600°C. Ang katatagan na ito ay mahalaga para sa mga proseso ng epitaxial na nangangailangan ng matagal na mataas na temperatura para sa mga pinalawig na panahon.

Thermal Integrity:

Ang kakayahan ng 6'' Wafer Carrier para sa Aixtron G5 na mapanatili ang integridad ng istruktura sa ganoong mataas na temperatura ay nagsisiguro ng pare-parehong pagganap at binabawasan ang panganib ng thermal degradation, na maaaring makompromiso ang kalidad ng mga layer ng semiconductor.

Napakahusay na Thermal Conductivity:

Pamamahagi ng init:

Ang mataas na thermal conductivity ng SiC ay nagpapadali sa mahusay na paglipat ng init sa ibabaw ng wafer, na tinitiyak ang isang pare-parehong profile ng temperatura. Ang pagkakaparehong ito ay mahalaga para maiwasan ang mga thermal gradient na maaaring humantong sa mga depekto at hindi pagkakapareho sa mga epitaxial layer.

Pinahusay na Kontrol sa Proseso:

Ang pinahusay na thermal management ay nagbibigay-daan para sa mas mahusay na kontrol sa proseso ng paglago ng epitaxial, na nagbibigay-daan sa paggawa ng mas mataas na kalidad na mga layer ng semiconductor na may mas kaunting mga depekto.

Paglaban sa kemikal:

Pagkakatugma sa Kinakaingal na Kapaligiran:

Ang 6'' Wafer Carrier para sa Aixtron G5 ay nagbibigay ng pambihirang pagtutol sa mga corrosive na gas na karaniwang ginagamit sa mga proseso ng CVD, tulad ng hydrogen at ammonia. Ang paglaban na ito ay nagpapahaba sa habang-buhay ng mga wafer carrier sa pamamagitan ng pagprotekta sa graphite substrate mula sa chemical attack.

Pinababang Gastos sa Pagpapanatili:

Ang tibay ng 6'' Wafer Carrier para sa Aixtron G5 ay binabawasan ang dalas ng pagpapanatili at pagpapalit, na humahantong sa mas mababang mga gastos sa pagpapatakbo at tumaas na uptime para sa Aixtron G5 equipment.

Mababang Coefficient ng Thermal Expansion (CTE):

Pinaliit na Thermal Stress:

Ang mababang CTE ng SiC ay nakakatulong na mabawasan ang thermal stress sa panahon ng mabilis na pag-init at paglamig na mga siklo na likas sa mga proseso ng paglaki ng epitaxial. Ang pagbawas sa thermal stress na ito ay nagpapababa sa posibilidad ng wafer crack o warping, na maaaring humantong sa pagkabigo ng device.

Pagkatugma sa Aixtron G5 Equipment:

Pinasadyang Disenyo:

Ang Semicorex 6'' Wafer Carrier para sa Aixtron G5 ay partikular na idinisenyo upang maging tugma sa kagamitan ng Aixtron G5, na tinitiyak ang pinakamainam na pagganap at tuluy-tuloy na pagsasama.

Pinakamataas na Pagganap:

Ang compatibility na ito ay nag-maximize sa pagganap at kahusayan ng Aixtron G5 system, na nagbibigay-daan dito upang matugunan ang eksaktong mga kinakailangan ng mga modernong proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor.