Fused Quartz Pedestal

Sa semiconductor fabrication, ang Fused Quartz Pedestal ay nagsisilbing support structure para sa quartz boat, na may hawak ng mga wafer. Sa pamamagitan ng pagpapanatili ng pare-parehong temperatura, nakakatulong itong makamit ang pare-parehong thin-film deposition, isang kritikal na salik para sa pagganap at pagiging maaasahan ng mga semiconductor device. Tinitiyak ng pedestal na ang thermal at light distribution sa loob ng process chamber ay pantay, sa gayo'y nagpapahusay sa pangkalahatang kalidad ng proseso ng deposition.

Mga Bentahe ng Fused Quartz Material

1.Mataas na Paglaban sa Temperatura

Ipinagmamalaki ng Fused Quartz Pedestal ang softening point na humigit-kumulang 1730°C, na nagbibigay-daan dito na makatiis ng matagal na paggamit sa mga temperaturang mula 1100°C hanggang 1250°C. Bukod dito, maaari nitong tiisin ang panandaliang pagkakalantad sa mga temperatura na kasing taas ng 1450°C.

2.Corrosion Resistance

Ang Fused Quartz Pedestal ay chemically inert sa karamihan ng mga acid, maliban sa hydrofluoric acid. Ang acid resistance nito ay lumalampas sa ceramics ng 30 beses at hindi kinakalawang na asero ng 150 beses. Sa matataas na temperatura, walang ibang materyal ang maaaring tumugma sa kemikal na katatagan ng fused quartz, na ginagawa itong isang mainam na pagpipilian para sa malupit na kemikal na kapaligiran.

3. Thermal Stability

Ang isa sa mga natatanging tampok ng Fused Quartz Pedestal ay ang kaunting thermal expansion coefficient nito. Ang ari-arian na ito ay nagbibigay-daan dito upang mapaglabanan ang matinding pagbabago ng temperatura nang walang pag-crack. Halimbawa, maaari itong mabilis na painitin hanggang 1100°C at pagkatapos ay ilubog sa tubig sa temperatura ng silid nang hindi napinsala—isang mahalagang katangian para sa mga proseso ng pagmamanupaktura na may mataas na stress.

Proseso ng Paggawa

Ang proseso ng pagmamanupaktura para sa Fused Quartz Pedestal ay maingat na kinokontrol upang matiyak ang pinakamataas na pamantayan ng kalidad. Ang mga pedestal ay ginawa sa pamamagitan ng mga proseso ng thermoforming at welding na isinasagawa sa mga malinis na kapaligiran ng klase na 10,000 o mas mataas. Kasunod na paglilinis gamit ang ultrapure na tubig (18 MΩ)higit na tinitiyak ang kadalisayan at pagganap ng produkto. Ang bawat Fused Quartz Pedestal ay sumasailalim sa mahigpit na inspeksyon, paglilinis, at packaging sa isang class 1,000 o mas mataas na cleanroom upang matugunan ang mahigpit na mga kinakailangan ng semiconductor fabrication.

High Purity Opaque Quartz Material

Upang epektibong harangan ang init at liwanag, ang Fused Quartz Pedestal ay gumagamit ng high-purity opaque quartz material. Ang mga natatanging katangian ng materyal na ito ay nagpapahusay sa kakayahan ng pedestal na mapanatili ang isang matatag at pare-parehong temperatura sa loob ng silid ng proseso, sa gayon ay tinitiyak ang pare-parehong kalidad ng thin-film deposition sa mga wafer.

Malawak na Saklaw ng mga Aplikasyon

Ang mga natatanging katangian ng Fused Quartz Pedestal ay ginagawa itong angkop para sa iba't ibang mga aplikasyon sa loob ng industriya ng semiconductor. Sa mga proseso ng ALD, sinusuportahan nito ang tumpak na kontrol ng paglaki ng manipis na pelikula sa antas ng atomic, na mahalaga para sa paggawa ng mga advanced na aparatong semiconductor. Sa panahon ng mga proseso ng LPCVD, ang thermal stability at light-blocking na kakayahan ng pedestal ay nag-aambag sa pare-parehong pagdeposito ng pelikula, pagpapabuti ng performance at yield ng device.

Sa mga proseso ng diffusion, ang Fused Quartz Pedestal ng mataas na temperatura na resistensya at chemical inertness ay nagsisiguro ng maaasahan at pare-parehong doping ng mga semiconductor na materyales. Ang mga prosesong ito ay kritikal para sa pagtukoy sa mga de-koryenteng katangian ng mga semiconductor device, at ang paggamit ng mga de-kalidad na materyales tulad ng fused quartz ay mahalaga para sa pagkamit ng pinakamainam na resulta.