Nadama ang glassy carbon coating

Ang Semicorex glassy carbon coating ay nadama na kumikilos bilang isang panloob na layer ng pagkakabukod sa silikon na carbide epitaxial reaktor. Ito ay isang mataas na pagganap na pagkakabukod ng materyal na idinisenyo para sa mga advanced na thermal environment. Ang produktong ito ay nagtagumpay sa karaniwang mga hamon sa pagmamanupaktura ng semiconductor na may mataas na temperatura sa pamamagitan ng pag-aalok ng mga mahusay na solusyon dahil sa magaan at mahusay na mga katangian ng pagkakabukod ng thermal ngnadama ang grapayt.

Ang base material ay isang mataas na kadalisayannadama ang grapaytPinili para sa mababang thermal conductivity mataas na temperatura ng katatagan at timbang ng ilaw. Ang normal na grapayt na nadama ay karaniwang may ibabaw ng hibla ng hibla at henerasyon ng butil sa nakataas na temperatura na maaaring mahawahan ang proseso ng kapaligiran sa mga sensitibong sistema ng epitaxial. Upang mabawasan ang isyung ito, ang ibabaw ng grapayt na nadama ay pantay na pinahiran ng isang layer ng glassy carbon-isang siksik, hindi porous form ng carbon na kilala para sa kawalang-kilos ng kemikal, mababang gas na pagkamatagusin, at pambihirang thermal na katatagan.

Ang Glassy Carbon ay isang di-graphitized carbon na pinagsasama ang mga katangian ng baso at keramika. Kabaligtaran sa mala-kristal na grapayt, ito ay isang amorphous, halos 100% SP2 na na-hybrid na materyal na carbon, na nabuo ng high-temperatura na sintering ng polymerized organic precursors, tulad ng phenolic resin, furfuryl alkohol dagta, atbp. Dahil ito ay itim sa buong at may isang makinis na ibabaw na katulad ng baso, tinatawag itong glassy carbon.

Ang glassy carbon coating ay maaaring maalis ang henerasyon ng mga particle ng hurno, magbigay ng selyadong mga pores sa ibabaw, may mahusay na mga katangian ng pagwawasak at bawasan ang pagkamatagusin, na ginagawang angkop ang materyal na ito para sa patuloy na paghahagis ng mga hulma at mga produkto sa industriya ng semiconductor. Ang materyal na ito ay may isang malawak na hanay ng mga aplikasyon sa industriya ng semiconductor, lalo na sa mga bahagi ng grapayt tulad ng solong mga sangkap ng paghila ng silikon na silikon, mga sangkap ng paglago ng epitaxial, patuloy na paghahagis ng mga hulma, salamin na sealing jigs, atbp.

Ang glassy carbon ay may mataas na temperatura ng paglaban hanggang sa 3000 ° C sa inert gas o vacuum, at hindi katulad ng lahat ng iba pang mga ceramic at metal na mataas na temperatura na materyales, ang lakas ng glassy carbon ay nagdaragdag na may pagtaas ng temperatura hanggang sa 2700K, at hindi ito naging malutong at may napakataas na paglaban ng thermal shock, kaya ang maikling pag -init at paglamig ay walang problema. Bilang karagdagan, ang glassy carbon ay may mababang masa, mababang pagsipsip ng init at mababang pagpapalawak ng thermal, kaya angkop ito para sa halos lahat ng mga aplikasyon ng mataas na temperatura.

Ang glassy carbon coating ay gumaganap ng isang mahalagang papel sa pag -sealing ng mga pores ng ibabaw ng grapayt na nadama, na makabuluhang binabawasan ang pagpapakawala ng mga particle at alikabok ng carbon sa panahon ng operasyon. Ito ay lalong kritikal sa mga proseso ng paglago ng epitaxial ng SIC, kung saan kahit na ang kaunting kontaminasyon ay maaaring makompromiso ang kalidad ng wafer at pagganap ng aparato. Sa pamamagitan ng encapsulating ang porous na istraktura ng nadama na may isang makinis, matigas na glassy carbon shell, tinitiyak ng patong ang isang malinis at matatag na thermal environment sa loob ng silid ng reaksyon.

Ang mga pangunahing bentahe ng glassy carbon coating nadama ay kasama ang:

Nabawasan ang pagpapadanak ng butil: Ang siksik na patong ay epektibong naka -lock sa maluwag na mga hibla at mga partikulo, na pumipigil sa kontaminasyon ng mga wafer at mga sangkap ng reaktor.

Mataas na katatagan ng thermal: Parehong ang grapayt na nadama at makintab na carbon ay maaaring makatiis ng mga temperatura na lumampas sa 2000 ° C sa mga inert o vacuum atmospheres, na ginagawang perpekto ang produkto para sa mga proseso ng high-temperatura na SIC.

Kemikal na pagkawalang -galaw: Ang makintab na ibabaw ng carbon ay lumalaban sa karamihan sa mga acid at kinakaing unti -unting gas, na nagpapalawak ng buhay ng pagpapatakbo ng layer ng pagkakabukod sa ilalim ng malupit na mga kondisyon.

Pinahusay na pare-pareho ang proseso: Ang minimized na henerasyon ng butil ay nag-aambag sa isang mas matatag at paulit-ulit na kapaligiran ng paglago ng epitaxial, na mahalaga para sa paggawa ng mga de-kalidad na wafer ng SIC.

Ang mga aplikasyon ng glassy carbon coating ay nadama lalo na sa SIC epitaxial growth furnaces, kung saan ginagamit ito bilang isang thermal pagkakabukod layer sa loob ng mainit na zone. Ang produkto ay karaniwang naka -install bilang isang materyal na lining sa itaas o mas mababang mga stacks ng pagkakabukod, kung saan nagbibigay ito ng parehong proteksyon ng thermal at katiyakan ng kalinisan.