> Balita

Balita

Pangunahing Uri ng Thermal Oxidation

Sa high-end na semiconductor device fabrication, ang mga SiO₂ film ay karaniwang nabubuo sa pamamagitan ng mga proseso ng oksihenasyon para sa substrate surface treatment, at ang kanilang mga karaniwang aplikasyon ay kinabibilangan ng dopant barrier layer, surface insulation layer, gate oxide layer,......

Magbasa pa

Inilapat ang Semicorex Ceramic sa pagproseso ng Semiconductor

Sa pag-unlad ng teknolohiya, ang mga matatalinong produkto tulad ng mga mobile phone, computer, de-kuryenteng sasakyan, at mga robot ay naisama na sa buhay ng mga tao. Ang mga produktong ito ay naglalaman ng malaking bilang ng mga semiconductor chip, at ang paggawa ng chip ay nangangailangan ng mga ......

Magbasa pa

Maikling Panimula sa High-Resistivity Silicon Wafers

Ang high-resistivity silicon wafers (HR-Si), gaya ng ipinahihiwatig ng pangalan nito, ay isang monocrystalline na silicon na materyal na may napakataas na resistivity. Sa advanced na larangan ng pagmamanupaktura ng semiconductor, ang pagkawala ng mataas na dalas ay naging isang malaking hamon sa dis......

Magbasa pa

Bakit Kailangang-kailangan ang Focus Ring para sa Etching Equipment？

Ang focus ring, na tinutukoy din bilang compensation ring o confinement ring, ay isang kailangang-kailangan na bahagi ng kagamitan sa pag-ukit, lalo na ng plasma dry etch equipment. Ang mga proseso ng nanoscale precision etching sa modernong pagmamanupaktura ng semiconductor ay hindi makakamit kung ......

Magbasa pa

Anong Mga Tungkulin ang Ginagampanan ng Proseso ng Pagsusupil?

Sa pamamagitan ng tumpak na pag-regulate ng mga profile ng heating at cooling, ang proseso ng annealing ay maaaring mag-activate ng mga dopant atoms, mag-aayos ng pinsala sa sala-sala, mapawi ang panloob na stress, at mapabuti ang electrical reliability ng mga wafer. Ang mga kritikal na pagpapahusay......

Magbasa pa

Mga Ceramic Vacuum Chuck

Ang mga ceramic vacuum chuck ay mga tool na ginagamit para sa pag-clamping at pagdadala ng mga semiconductor wafer sa paggawa ng semiconductor wafer. Nagtatampok ang mga ito ng mataas na flatness at parallelism, siksik at pare-parehong istraktura, mataas na lakas, magandang air permeability, pare-pa......

Magbasa pa

<1 2 3 4 5...58 >