> Balita > Balita sa Industriya

Balita sa Industriya

4th Generation Semiconductors Gallium Oxide/β-Ga2O3

Ang unang henerasyon ng mga materyales ng semiconductor ay pangunahing kinakatawan ng silikon (Si) at germanium (Ge), na nagsimulang tumaas noong 1950s. Ang Germanium ay nangingibabaw sa mga unang araw at pangunahing ginagamit sa mga low-voltage, low-frequency, medium-power transistors at photodetec......

Magbasa pa

Walang Depekto na Epitaxial Growth at Misfit Dislocations

Nangyayari ang walang depektong paglaki ng epitaxial kapag ang isang kristal na sala-sala ay may halos magkaparehong lattice na pare-pareho sa isa pa. Nangyayari ang paglago kapag ang mga lattice site ng dalawang lattice sa rehiyon ng interface ay tinatayang tumugma, na posible sa isang maliit na la......

Magbasa pa

Proseso ng Oksihenasyon

Ang pinakapangunahing yugto ng lahat ng mga proseso ay ang proseso ng oksihenasyon. Ang proseso ng oksihenasyon ay upang ilagay ang silicon wafer sa isang kapaligiran ng mga oxidant tulad ng oxygen o singaw ng tubig para sa mataas na temperatura na paggamot sa init (800~1200 ℃), at isang kemikal na ......

Magbasa pa

Bakit Hindi Lumalaki ang Gllium Nitride (GaN) Epitaxy sa substrate ng GaN?

Ang paglaki ng GaN epitaxy sa GaN substrate ay nagpapakita ng isang natatanging hamon, sa kabila ng mga superior na katangian ng materyal kung ihahambing sa silikon. Nag-aalok ang GaN epitaxy ng mga makabuluhang pakinabang sa mga tuntunin ng lapad ng band gap, thermal conductivity, at pagkasira ng e......

Magbasa pa

Paano gawin ang Proseso ng CMP

Sa proseso ng pagmamanupaktura ng silicon wafer, pagkatapos putulin ang crystal rod sa mga silicon na wafer, kakailanganin itong pulido at linisin upang makakuha ng isang kristal na silicon wafer tulad ng salamin.

Magbasa pa

Ano ang Proseso ng CMP

Sa paggawa ng semiconductor, ang atomic-level na flatness ay karaniwang ginagamit upang ilarawan ang pandaigdigang flatness ng wafer, na may yunit ng nanometer (nm).

Magbasa pa

<...7 8 9 10 11...22 >