Mga produkto

Ang Semicorex Alumina Vacuum Chucks ay precision-engineered na mga bahagi na idinisenyo upang secure na humawak ng mga wafer o substrate sa panahon ng kritikal na semiconductor at precision na proseso ng pagmamanupaktura. Sa pangako ng Semicorex sa mga de-kalidad na materyales at makabagong mga diskarte sa pagmamanupaktura, ang aming Alumina Vacuum Chucks ay nagbibigay ng walang kaparis na pagiging maaasahan, katumpakan, at pagganap para sa iyong pinaka-hinihingi na mga aplikasyon.*

Ang Semicorex Vacuum Chuck ay isang high-performance na component na idinisenyo para sa secure at tumpak na paghawak ng wafer sa paggawa ng semiconductor. Piliin ang Semicorex para sa aming mga advanced, matibay, at contamination-resistant na mga solusyon na nagsisiguro ng pinakamainam na performance sa kahit na ang pinakamahirap na proseso.*

Ang Semicorex TaC Coated Graphite Chuck ay isang high-performance component na idinisenyo para sa tumpak na paghawak ng wafer at mga prosesong may mataas na temperatura sa paggawa ng semiconductor. Piliin ang Semicorex para sa mga makabago at matibay na produkto nito na nagsisiguro ng pinakamainam na performance at mahabang buhay sa hinihingi na mga aplikasyon ng semiconductor.*

Ang PBN Electrostatic Chuck ng Semicorex ay namumukod-tangi sa larangan ng paghawak ng wafer sa paggawa ng semiconductor dahil sa mga natatanging katangian ng materyal nito.

Ang pangunahing function ng Semicorex Porous Ceramic Vacuum Chuck ay ang kakayahang magbigay ng pare-parehong air at water permeability, isang tampok na nagsisiguro ng pantay na pamamahagi ng stress at matatag na pagdirikit ng mga wafer ng silicon. Napakahalaga ng katangiang ito sa panahon ng proseso ng paggiling, dahil pinipigilan nitong dumulas ang wafer, at sa gayon ay napapanatili ang integridad ng operasyon.**

Ang Semicorex Al2O3 Vacuum Chuck ay idinisenyo upang matugunan ang mahigpit na pangangailangan ng iba't ibang proseso ng produksyon ng semiconductor, kabilang ang pagnipis, pag-dicing, paglilinis, at pagdadala ng mga wafer. **