Semiconductor Quartz Crucibles

Ang Semicorex Semiconductor Quartz Crucibles ay maaaring maubos na mga produkto sa industriya ng semiconductor partikular para sa quartz crucibles na ginamit sa proseso ng paghila ng kristal ng paggawa ng silikon na solong kristal. Ang mga ito ay ginawa mula sa ultra-pure fused quartz na nagbibigay kasiyahan sa kalinisan, homogeneity, at paglaban ng init at ginawa upang matugunan ang mataas na hinihingi ng modernong semiconductor manufacturing. Mahalaga ang mga ito sa pagtutukoy ng Silicon Ingot dahil ang kanilang mga katangian ay direktang nakakaapekto sa pagganap ng wafer at ani sa integrated pagproseso ng circuit.

Mula sa isang thermal at pisikal na punto ng view: Ang Quartz Crucibles ay maaaring makatiis ng init nang maayos. Ang punto ng pagpapapangit ay humigit -kumulang na 1100 ° C, ang paglambot point ay humigit -kumulang na 1730 ° C, at ang maximum na tuluy -tuloy na temperatura ng serbisyo ay 1100 ° C, [maikling termino na pagkakalantad hanggang sa 1450 ° C]. Ang mga pag -aari na ito ay nagbibigay -daan sa kakayahang magamit sa mataas na temperatura habang nagbibigay ng mataas na kadalisayan at thermal resilience, at samakatuwid, itaguyod ang katatagan sa panahon ng mga proseso ng paghila ng kristal na czochralski (CZ), kung saan ang kontaminasyon at pagpapapangit ay kailangang mabawasan, at ang tumpak na mga profile ng thermal ay pinakamahalaga sa pagkuha ng paglaki ng homogenous.

Mula sa isang istrukturang pananaw, ang semiconductor quartz crucibles ay binubuo ng isang layered composite na istraktura na idinisenyo para sa mga thermal properties at mekanikal na lakas. Ang panimulang (paglipat ng panloob) na layer ay isang transparent na layer ng kuwarts na, sa pangkalahatan, isang-katlo ng kapal ng dingding (tungkol sa 3-5 mm), at may medyo mababang nilalaman ng bubble (depende sa pamamaraan ng pagproseso) at samakatuwid ang isang makinis na kakulangan sa ibabaw ay makikipag-ugnay sa tinunaw na silicon quartz na ibabaw (ito ay nag-aambag sa pagkontrol ng kontaminasyon at pagtiyak ng matatag na mga kondisyon para sa kristal na paglaki).

Ang labas ay nakalagay sa isang mas malaking antas ng mga bula na nag -aambag sa lakas ng pagpapapangit ng Crucible, mas mataas na paglaban ng thermal stress, at thermal pagkakabukod mula sa mapagkukunan ng init para sa pagkakapareho ng radiation. Ang mga layer ng Crucible ay nagbibigay -daan sa ito upang mapanatili ang form at integridad, sa kabila ng degree na pagkakaiba -iba ng mga thermal gradients na umiiral sa proseso ng paghila ng kristal.

Ang mga modernong quartz crucibles ay umunlad pa kaysa sa tradisyonal na istraktura ng two-layer dahil sa pagsulong sa teknolohiya ng pagmamanupaktura. Maraming mga crucibles ang gumagamit ng isang three-layer na istraktura-isang transparent na panloob na layer, transparent na gitnang layer na may mga bula na nagkalat sa pamamagitan ng kuwarts, at isang panlabas na manipis na layer ng bubbly quartz. Ang mga istraktura ng tatlong-layer ay nag-aalok ng mas mahusay na lakas ng mekanikal, pamamahala ng thermal, at mga benepisyo sa gastos, at pagbutihin ang mga katangian ng paglipat ng init. Gayundin, ang ilang mga crucibles ay nag-aaplay ng mga coatings ng alkali metal ion (hal., Barium ion solution) sa panloob na ibabaw, o gumamit ng high-kadalisayan synthetic quartz sa mga tiyak na layer, upang makatulong na mabawasan ang nilalaman ng oxygen, maubos ang mga kadalisayan, at pagbutihin ang pangkalahatang kalidad ng mga hinila na solong kristal.

Ang paggawa ng quartz crucibles para sa mga semiconductors ay inilaan na gaganapin sa mahigpit na pagpapahintulot sa kalidad ng kontrol sa mga kadalisayan na kinakailangan, na karaniwang ilang bahagi bawat bilyong metal na impurities. Ang mga hilaw na materyales ay maingat na napili at nalinis upang alisin ang anumang mga kontaminado. Ang mga ito ay nabuo sa magaspang na sukat, na may tamang thermal na paggamot na inilalapat, at natapos ang ibabaw upang matugunan ang dimensional na kawastuhan, lakas ng makina, at kalinisan. Ang proseso ay nakatuon sa pagtiyak na ang mga crucibles ay mananatiling maaasahan habang napapailalim sa matagal na pagkakalantad ng mataas na temperatura sa malupit na mga kemikal na kapaligiran.

Ang pagganap ng Quartz Crucible sa semiconductor production ay nakakaimpluwensya sa pagkakapareho ng silikon na kristal na sala -sala, ang density ng depekto, at ang oxygen sa ingot. Ang mga mataas na kadalisayan at walang depekto na quartz crucibles, ay limitahan ang dislokasyon ng mga depekto ng kristal, mapahusay ang rate ng ani, at maitaguyod ang kakayahan ng pagbuo ng mga wafer upang isulong ang mga geometry ng aparato. Kung ikaw ay isang tagagawa ng HGH-performance ICS, photovoltaic-grade silikon, o electronics ng kuryente, ang pagpili at paggamit ng mga quartz crucibles na may mataas na kalidad ay isang mahalagang elemento para sa pagtaguyod at pag-optimize ng pagganap ng gastos.

SemicorexSemiconductor QuartzAng mga crucibles ay isang mahalagang materyal na pandiwang pantulong para sa anumang sistema ng paghila ng silikon. Ang mga natatanging katangian ng kadalisayan, katatagan ng mataas na temperatura, at pagmamay-ari ng mga istrukturang multi-layer ay ginagawang isang angkop na materyal para sa pagsuporta sa mga rigors ng proseso ng paghila ng CZ habang nagbibigay ng pare-pareho at maaaring muling mabigyan ng pagganap. Habang ang pagmamanupaktura ng semiconductor ay gumagalaw patungo sa mas mataas na pagsasama at mas magaan na pagpapahintulot, ang makabuluhang halaga na idinagdag na mga benepisyo ng katumpakan na engineered quartz crucibles ay bubuo ng higit na kahalagahan tungo sa pagpapagana at pagbuo ng mga susunod na henerasyon na mga teknolohiya ng elektronik.