SIC Coated Wafer Sinistors

Ang Semicorex sic coated wafer na mga semento ay idinisenyo upang matugunan ang mga kinakailangan sa pagpindot para sa paggawa ng mga advanced na semiconductors, lalo na sa mga walang presyur na mga sistema ng pag -aalis ng pelikula ng ultrathin. Dinisenyo ang katumpakan, nag-aalok sila ng mahusay na pagganap ng thermal, tibay ng kemikal, at katatagan ng mekanikal-mahahalagang para sa mga susunod na henerasyon na kapaligiran para sa manipis na pagproseso ng pelikula.

Sa mga diskarte sa pag -aalis na hindi gumagamit ng presyon, tulad ng atomic layer deposition (ALD), kemikal na pag -aalis ng singaw (CVD), at pisikal na pag -aalis ng singaw (PVD) para sa napaka manipis na pelikula, ang mga pangunahing kinakailangan ay isang pantay na pamamahagi ng temperatura at katatagan ng ibabaw. Ang pagiging natatangi ng aming disenyo ng susceptor ay namamalagi sa katotohanan na isinasama nito ang isang mataas na kadalisayan na porous na substrate na nagbibigay-daan sa ito upang gumana nang epektibo sa ilalim ng mga kondisyon ng vacuum o malapit-bakasyon sa gayon binabawasan ang thermal stress at nagbibigay ng pantay na paglipat ng enerhiya sa ibabaw ng wafer.

Ang istraktura ng multi-hole ay isang pangunahing pagbabago: nakakatulong ito na mabawasan ang thermal mass, nagtataguyod ng kahit na pamamahagi ng daloy ng gas, at nagpapagaan ng pagbabagu-bago ng presyon na kung hindi man ay makompromiso ang pagkakapareho ng pag-aalis. Ang istraktura na ito ay nag-aambag din sa mas mabilis na thermal ramp-up at cooldown cycle, pagpapahusay ng pangkalahatang throughput at control control.

Nag -aalok kami ng isang hanay ng mga sukat ng Sarceptor, geometry, at mga antas ng porosity upang tumugma sa iba't ibang mga disenyo ng sistema ng pag -aalis at mga sukat ng wafer. Ang modular na katangian ng aming proseso ng pagmamanupaktura ay nagbibigay -daan para sa pagpapasadya upang matugunan ang mga tiyak na thermal, mechanical, at kemikal na mga kinakailangan ng manipis na proseso ng pelikula ng kliyente.

Ang Semicorex sic Coated Wafer Susceptor ay isang solusyon na may mataas na pagganap na naaayon sa natatanging mga hamon ng pag-aalis ng film na walang presyur na ultrathin. Ang kumbinasyon ng porous na disenyo ng istruktura at matatag na patong ng SIC ay nagbibigay ng pinakamainam na suporta para sa mga proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor ng high-precision, pagpapagana ng mas mahusay na kalidad ng pelikula, mas mataas na ani, at mas mababang mga gastos sa pagpapatakbo.