Sic takip

Ang Semicorex sic Lid ay isang mahalagang bahagi na partikular na idinisenyo para sa pagproseso ng semiconductor. Ito ay dinisenyo para sa pinakamahirap na mga kapaligiran sa epitaxy, ion implanting, at mga application na may mataas na temperatura. Ito ay ginawa mula sa ultra-pure silikon na karbida na kung saan ay may lubos na matatag na mga katangian ng materyal at katumpakan ng engineered. Ang pangmatagalang pagkakapare-pareho, tibay, at kalinisan ay ang mga pangunahing dahilan upang piliin ang Semicorex sic takip para magamit sa mga advanced na proseso ng katha ng semiconductor.

Silicon Carbide (sic)ay may isang hanay ng mga pag -aari na kung saan ay natatangi kumpara sa tradisyonal na mga keramika o metal na materyales. Ang isa sa mga pangunahing bentahe ng SIC ay ang paglaban nito sa mataas na temperatura. Maaaring mapanatili ng SIC ang integridad ng istruktura at mekanikal na katatagan - para sa mahabang panahon kahit na sa nakataas na temperatura. Ginagawa nitong perpekto ang SIC para sa mga proseso tulad ng Chemical Vapor Deposition (CVD) epitaxy o high-energy ion implantation. Ang mga metal at plastik ay magpapalitan, mag -oxidize, o mahawahan sa matinding temperatura, habang ang SIC ay mapanatili ang dimensional na katatagan at hindi positibong nakikipag -ugnay sa mga wafer na naproseso.

Ang paglaban sa kemikal ay isa pang nakikilala na tampok ng SIC lids. Sa pagproseso ng semiconductor ang mga kapaligiran na maaari mong makatagpo sa mga kinakaing unti -unting gas, ang mga plasma, o reaktibo na mga kemikal ay hindi bihira. Sa mga sitwasyong iyon ang ibabaw ng SIC ay magbibigay ng isang hadlang na hadlang upang pigilan ang mga kontaminadong iyon mula sa pagpapabagal sa ibabaw sa paglipas ng panahon na nagreresulta sa isang mas mahabang mabisang buhay. Ang kahabaan ng buhay na ito ay katumbas ng nabawasan ang mga gastos sa pagpapanatili, nabawasan ang kagamitan sa oras, at pag -uulit sa buong mga siklo ng proseso. Ang mga salik na ito ay ginagawang mas mahusay na pagpipilian ang SIC LID para sa mga tela na nangangailangan ng tuluy -tuloy, mataas na paggawa ng ani kumpara sa mga tradisyunal na materyales.

Tulad ng paglaban ng kemikal, ang kadalisayan ay mahalaga din sa application ng semiconductor. Ang pagkakaroon ng mga kontaminadong bakas ay maaaring magkaroon ng negatibong epekto sa pagganap at ani ng aparato. Ang SIC LID ay ginawa mula sa mataas na kadalisayan na mga materyales na karbida na hindi kasama ang posibilidad ng mga metal na impurities na dumadaloy sa kapaligiran ng proseso. Bilang karagdagan, ginagarantiyahan na maging malinis hangga't maaari at matatag dahil nauugnay ito sa mga kontaminado at sa labas ng mga puwersa na nakakaapekto sa pagganap ng takip, na kritikal sa pagtupad ng mga kinakailangan sa semiconductor sa paggawa, kung saan ang mga bagay na antas ng nanometer ay dapat na tinukoy ng walang sukat na katumpakan at kontrol ng mga kontaminado. Ang kakayahang umangkop na alok ng SIC LID ay karagdagang halaga. Ang bawat sangkap ay maaaring idinisenyo para sa mga pangangailangan ng isang tiyak na customer na may paggalang sa laki, geometry, at pagtatapos ng ibabaw. Tinitiyak nito na ang takip ay madaling isama at isinama sa iba't ibang mga modelo ng kagamitan at mga tool sa proseso.

Ang katumpakan ng machining ngSicAng mga lids ay karagdagang nagpapabuti sa halaga ng mga sic lids. Ang mga tool ng Semiconductor ay nangangailangan ng pinakamataas na mekanikal na katumpakan dahil sa malaking pagbabagu -bago sa dimensional na pagiging tugma at pagkakapareho sa ibabaw, kahit na ang mga menor de edad na pagkakaiba -iba sa pagkakapareho at kapal ng materyal ay maaaring malubhang makompromiso ang mga pagkakapare -pareho ng proseso ng isang tool, throughput at kalidad ng produkto. Sa pamamagitan ng mga advanced na teknolohiya sa pagproseso ng mga materyales, ang mga SIC lids ay may isang flatness, uniporme sa ibabaw at pagpaparaya na lumampas sa mga pamantayan sa industriya, na nag -aalok ng mechanical sealing na kapal ng ibabaw o f, karaniwang, libu -libo/libu -libong isang pulgada (TIR). Pinapayagan ng mataas na flatness ang pagbubuklod ng isang mekanikal na akma pati na rin ang katiyakan para sa mga limitasyon sa grade-laboratoryo upang makaranas ng mga kondisyon sa proseso ng paggawa ay maaaring mai-replicate. Ito ay partikular na maliwanag sa mataas na dami ng mga tela kung saan ang diin sa pag -uulit ng mga kondisyon ay mahalaga para sa pagganap ng mga aparato ng semiconductors. Kapag hinahabol mo ang katumpakan na engineering ay direktang nagsasalita ito upang magbunga ng pag -optimize. Kapag ang mga sic lids ay nasa tipikal na praktikal na paggamit, halimbawa, sa epitaxy kung saan ang takip ng SIC ay nakaupo sa thermally at kemikal na matatag upang makapasok sa reaktor, o sa isang sistema ng pagtatanim ng ion upang labanan ang mga masiglang particle na na -ejected mula sa isang mataas na kuryente ng kanilang mga ions na pumipigil sa takip, ang kanilang mga mekanikal na pagsasaayos at mga pag -aari ay nagpapanatili ng kanilang pagganap sa ilalim ng patuloy na pagbomba ng mga energetic solids, marumi sa mga kundisyon at potensyal. Ang mga suitors kung bakit ang SIC Lids ay nakalaan upang magkasingkahulugan sa solid-state semiconductor production.

Ang Semicorex sic takip ay kumakatawan sa pinakamahusay sa parehong mga materyales sa agham at materyal na engineering, at nag -aalok ng pinakamahusay na pagganap na posible sa kapaligiran ng semiconductor, kabilang sa kanilang mataas na pagpapahintulot sa temperatura, paglaban ng kemikal, perpektong kadalisayan, pasadyang mga katha, tumpak na gawa ng machining, ang SIC takip ay gaganap.