Ang ICP etching wafer holder ng Semicorex ay ang perpektong solusyon para sa mataas na temperatura na mga proseso ng paghawak ng wafer gaya ng epitaxy at MOCVD. Sa isang matatag, mataas na temperatura na oxidation resistance na hanggang 1600°C, tinitiyak ng aming mga carrier ang kahit na mga thermal profile, mga pattern ng daloy ng laminar gas, at pinipigilan ang kontaminasyon o pagkalat ng mga impurities.
Magbasa paMagpadala ng InquiryAng ICP Etching Carrier Plate ng Semicorex ay ang perpektong solusyon para sa hinihingi na paghawak ng wafer at mga proseso ng thin film deposition. Ang aming produkto ay nagbibigay ng mahusay na init at corrosion resistance, kahit na thermal uniformity, at laminar gas flow patterns. Sa malinis at makinis na ibabaw, ang aming carrier ay perpekto para sa paghawak ng malinis na mga wafer.
Magbasa paMagpadala ng InquiryAng Wafer Holder ng Semicorex para sa Proseso ng Pag-ukit ng ICP ay ang perpektong pagpipilian para sa hinihingi na paghawak ng wafer at mga proseso ng pagdeposito ng manipis na pelikula. Ipinagmamalaki ng aming produkto ang mahusay na paglaban sa init at kaagnasan, kahit na pagkakapareho ng thermal, at pinakamainam na pattern ng daloy ng laminar gas para sa pare-pareho at maaasahang mga resulta.
Magbasa paMagpadala ng InquiryAng ICP Silicon Carbon Coated Graphite ng Semicorex ay ang mainam na pagpipilian para sa hinihingi na paghawak ng wafer at manipis na mga proseso ng deposition ng pelikula. Ipinagmamalaki ng aming produkto ang mahusay na paglaban sa init at kaagnasan, kahit na pagkakapareho ng thermal, at pinakamainam na pattern ng daloy ng laminar gas.
Magbasa paMagpadala ng InquiryPiliin ang ICP Plasma Etching System ng Semicorex para sa Proseso ng PSS para sa mataas na kalidad na mga proseso ng epitaxy at MOCVD. Ang aming produkto ay partikular na ininhinyero para sa mga prosesong ito, na nag-aalok ng mahusay na init at paglaban sa kaagnasan. Sa malinis at makinis na ibabaw, ang aming carrier ay perpekto para sa paghawak ng malinis na mga wafer.
Magbasa paMagpadala ng InquiryAng ICP Plasma Etching Plate ng Semicorex ay nagbibigay ng napakahusay na init at paglaban sa kaagnasan para sa paghawak ng wafer at mga proseso ng pagdeposito ng manipis na pelikula. Ang aming produkto ay ininhinyero upang makatiis sa mataas na temperatura at malupit na paglilinis ng kemikal, na tinitiyak ang tibay at mahabang buhay. Sa malinis at makinis na ibabaw, ang aming carrier ay perpekto para sa paghawak ng malinis na mga wafer.
Magbasa paMagpadala ng Inquiry