Silicon Pedestal

Ang Semicorex Silicon Pedestal, isang madalas na hindi napapansin ngunit kritikal na mahalagang bahagi, ay gumaganap ng isang mahalagang papel sa pagkamit ng tumpak at paulit-ulit na mga resulta sa mga proseso ng diffusion ng semiconductor at oksihenasyon. Ang espesyal na platform, kung saan nakapatong ang mga silicon boat sa loob ng mga high-temperature furnace, ay nag-aalok ng mga natatanging bentahe na direktang nag-aambag sa pinahusay na pagkakapareho ng temperatura, pinahusay na kalidad ng wafer, at sa huli, mahusay na pagganap ng aparatong semiconductor.**

Magpadala ng Inquiry

Paglalarawan ng Produkto

1. Semicorex Silicon Pedestal na Pinapatatag ang Kapaligiran sa Pagproseso para sa Mga Pinakamainam na Resulta:

Paglikha ng Matatag na Pundasyon para sa Crystal Boats:Ang Silicon Pedestal ay nagbibigay ng matatag at thermally stable na platform para sa mga silicon boat sa loob ng high-temperature furnace chamber. Tinitiyak ng katatagan na ito na mapanatili ng mga bangka ang kanilang posisyon at oryentasyon sa buong proseso, na pumipigil sa hindi gustong paggalaw o pagkiling na maaaring makagambala sa dynamics ng daloy ng gas at makompromiso ang pagkakapareho ng temperatura.

Pagpapahusay ng Pagkakapareho ng Temperatura sa loob ng Reaction Chamber:Sa pamamagitan ng epektibong paghihiwalay ng silicon boat mula sa sahig at dingding ng furnace, pinapaliit ng Silicon Pedestal ang pagkawala ng init sa pamamagitan ng pagpapadaloy at nagpo-promote ng mas pare-parehong pamamahagi ng temperatura sa loob ng thermal reaction tube. Ang pinahusay na kakayahan sa pamamahala ng thermal ay mahalaga para sa pagkamit ng pare-pareho at paulit-ulit na pagsasabog o mga profile ng oksihenasyon sa buong ibabaw ng wafer.

Pagpapalakas ng Insulation Efficiency para sa Optimized na Paggamit ng Enerhiya:Ang likas na katangian ng thermal insulation ng Silicon Pedestal ay nag-aambag sa isang prosesong mas matipid sa enerhiya sa pamamagitan ng pagliit ng pagkawala ng init sa kapaligiran. Isinasalin ito sa mas mabilis na mga ikot ng pag-init at paglamig, pagbawas ng pagkonsumo ng enerhiya, at sa huli, pagbaba ng kabuuang gastos sa pagproseso.

2. Material Synergy para sa Superior Wafer Quality:

Pagtutugma ng Thermal Expansion para sa Pinababang Wafer Stress:Ang Silicon Pedestal, na gawa mula sa parehong high-purity na silicon na materyal gaya ng mga bangka at wafer mismo, ay nag-aalok ng mahalagang kalamangan sa mga alternatibong materyales tulad ng quartz o silicon carbide. Tinitiyak ng materyal na synergy na ito na ang pedestal, bangka, at mga wafer ay lumalawak at kumukurot sa halos magkaparehong mga rate sa panahon ng mga ikot ng pag-init at paglamig, na pinapaliit ang panganib ng thermal stress, pagyuko ng wafer, at mga crystallographic na depekto na maaaring negatibong makaapekto sa yield at performance ng device.

Pag-minimize ng Contamination at Lattice Mismatch:Ang paggamit ng high-purity na silicon para sa Silicon Pedestal at bangka ay nag-aalis ng potensyal para sa kontaminasyon mula sa magkakaibang mga materyales, na tinitiyak ang isang malinis na kapaligiran sa pagproseso para sa mga wafer. Ang materyal na compatibility na ito ay pinapaliit din ang panganib ng mga hindi pagkakatugma ng sala-sala sa interface ng wafer-boat, na higit na nag-aambag sa pinahusay na kalidad ng kristal at nabawasang mga depekto.