TaC-coated Seal Ring

Ang Semicorex TaC-coated Seal Ring ay nagpapakita ng pambihirang inertness sa isang malawak na hanay ng mga corrosive na gas at kemikal na ginagamit sa mga proseso ng semiconductor, kabilang ang mga plasma etch chemistries (hal., fluorine, chlorine, bromine), dopants (hal., boron, phosphorus, arsenic), at agresibo mga ahente sa paglilinis. Pinipigilan ng inertness na ito ang pagkasira ng seal at kontaminasyon ng mga sensitibong silid ng proseso.

At sa isang melting point na lumampas sa 3800°C, pinapanatili ng TaC-coated Seal Ring ang integridad ng istruktura at mekanikal na lakas nito sa matataas na temperaturang nararanasan sa pagpoproseso ng wafer. Tinitiyak nito ang maaasahang pagganap ng sealing sa panahon ng mataas na temperatura na pagsusubo, pag-deposition, at mga proseso ng pag-ukit.

Ang sobrang tigas at mababang friction coefficient ng TaC-coated Seal Ring ay nagbibigay ng pambihirang pagtutol sa pagsusuot, pagkamot, at pagka-abrasyon. Ito ay kritikal sa mga dynamic na sealing application kung saan ang paulit-ulit na paggalaw o pakikipag-ugnayan sa mga wafer at iba pang mga bahagi ay maaaring humantong sa pagbuo ng particle at pagkabigo ng seal.

Ang TaC-coated Seal Ring ay nagpapakita ng napakababang mga rate ng outgassing, kahit na sa mataas na temperatura, na ginagawa itong perpekto para sa mga high-vacuum na aplikasyon. Tinitiyak nito ang kadalisayan ng proseso at pinipigilan ang pag-deposito ng mga hindi gustong contaminant sa mga sensitibong ibabaw ng wafer.

Mga Partikular na Benepisyo sa Mga Aplikasyon ng Semiconductor:

Pinahabang Buhay ng Selyo:Ang TaC-coated Seal Ring ay makabuluhang pinapataas ang buhay ng seal sa pamamagitan ng pagbibigay ng higit na paglaban sa chemical attack, thermal degradation, at mechanical wear. Binabawasan nito ang dalas ng mga pagpapalit ng seal, pinapaliit ang downtime at mga gastos sa pagpapanatili.

Pinahusay na Proseso at Kalidad ng Wafer:Ang inert na katangian ng TaC-coated Seal Ring ay nagpapaliit sa pagbuo ng particle at kontaminasyon, na humahantong sa mas mataas na proseso ng ani at pinahusay na kalidad ng wafer. Ito ay kritikal para sa produksyon ng mga high-performance na mga semiconductor na device na may mahigpit na defect tolerances.

Pinahusay na Uptime at Produktibo ng Kagamitan:Ang mas mahabang buhay ng seal at pinababang mga kinakailangan sa pagpapanatili ay nakakatulong sa pagtaas ng uptime ng kagamitan at pangkalahatang produktibidad. Ito ay mahalaga para sa pag-maximize ng output at pagtugon sa mga pangangailangan ng high-volume na paggawa ng semiconductor.