TaC Coated Wafer Receptor

Ang Semicorex TaC Coated Wafer Susceptor ay isang mahalagang bahagi na ginagamit sa mga furnace ng Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) para sa pagproseso ng semiconductor epitaxial (epi). Ang dalubhasang round susceptor na ito ay ginawa mula sa de-kalidad na graphite na materyal at nagtatampok ng natatanging Tantalum Carbide (TaC) coating.

Ang pangunahing layunin ng TaC coating ay pahusayin ang pagganap at tibay ng TaC Coated Wafer Susceptor sa panahon ng hinihingi na mga kondisyon ng mga proseso ng paggawa ng semiconductor. Ang Tantalum Carbide ay kilala sa pambihirang tigas, mataas na punto ng pagkatunaw, at paglaban sa pagkasira at kaagnasan. Ginagawa ng mga katangiang ito ang TaC Coated Wafer Susceptor na isang perpektong pagpipilian para sa pagprotekta sa pinagbabatayan na graphite susceptor mula sa mga kemikal na reaksyon at pisikal na stress na nangyayari sa loob ng MOCVD furnace.

Ang TaC Coated Wafer Susceptor ay gumaganap ng isang mahalagang papel sa epitaxial growth ng mga semiconductor na materyales sa pamamagitan ng pagpapadali sa pagdeposito ng mga manipis na pelikula sa mga wafer. Ang kakayahang makatiis ng mataas na temperatura at malupit na kapaligiran ng kemikal ay mahalaga para sa pagkamit ng tumpak at maaasahang paggawa ng semiconductor device.

Ang TaC Coated Wafer Susceptor, kasama ang graphite core nito at Tantalum Carbide coating, ay nagsisiguro ng pare-pareho at pare-parehong pamamahagi ng init, na nag-aambag sa reproducibility at kalidad ng mga semiconductor layer na lumago sa panahon ng proseso ng MOCVD. Ang advanced na kumbinasyon ng materyal na ito ay ginagawa itong isang maaasahan at matibay na solusyon para sa paggawa ng semiconductor, na nakakatugon sa mahigpit na mga kinakailangan ng modernong produksyon ng elektronikong aparato.