8-inch waferholder singsing

Ang mga singsing ng Semicorex 8-inch waferholder ay ang pagputol ng semiconductor na pagproseso ng hardware na inilaan upang ma-secure at suportahan ang mga wafer ng silikon sa pamamagitan ng mahalagang mga proseso ng thermal, etching, at pag-aalis. Itinayo mula sa de-kalidad na grapayt na may siksikpatong ng silikon carbide (sic)Para sa idinagdag na lakas, ang singsing ng may hawak ng wafer ay nagbubunga ng higit na katatagan ng thermal, paglaban ng kemikal, at lakas ng mekanikal, na ginagawang perpekto para magamit sa mataas na temperatura at kinakaing unti-unting kapaligiran tulad ng CVD (kemikal na pag-aalis ng singaw), PECVD, at mga epitaxy system.

Mga pangunahing tampok:

Komposisyon ng Materyal:

Ang materyal na substrate ayHigh-purity grapayt, na napili para sa mataas na thermal conductivity at istruktura homogeneity. Mataas na density at unipormeSilicon Carbide (SIC) Film Coatingay inilalapat sa ibabaw, na nagpapakita ng mataas na pagtutol sa oksihenasyon at pag -atake ng kemikal kahit na sa nakataas na temperatura na higit sa 1000 ° C. Ang halo ay naglalaman ng isang buhay ng istante ng mahabang tagal at kaunting panganib ng kontaminasyon ng mga wafer.

Secure Wafer Positioning

Dinisenyo lalo na upang hawakan ang 8-pulgada (200 mm) na mga wafer, ang singsing ng waferholder ay humahawak ng tumpak na pagpapahintulot at isang mahusay na dinisenyo na panloob na geometry upang ligtas na mahigpit na mahigpit ang wafer. Ang singsing ay nananatiling matatag sa posisyon sa panahon ng thermal cycling at daloy ng gas, na binabawasan ang micro-kilusan na maaaring humantong sa paglikha ng butil o pagbasag ng wafer.

Uniporme ng thermal:

Ang likas na thermal conductivity ng graphite substrate at ang katatagan ng SIC coating ay matiyak na pare -pareho ang paglipat ng init sa ibabaw ng wafer. Nagreresulta ito sa pare -pareho na mga resulta ng proseso, nabawasan ang thermal stress, at mas mahusay na ani ng aparato.

Paglaban sa kemikal at plasma:

Pinoprotektahan ng ibabaw ng SIC ang graphite core mula sa malupit na proseso ng mga plasmas at gas, na nag -aalok ng isang pagtutol sa paulit -ulit na mga siklo ng proseso. Ang kemikal na pagkawalang-galaw ay lalong kapaki-pakinabang sa kinakaing unti-unting mga halogen na naglalaman ng mga kapaligiran ng gas o reaktibo na gas.

Magagamit ang pagpapasadya:

Ang 8-inch waferholder singsing ay maaaring pasadyang dinisenyo upang matugunan ang mga tukoy na kagamitan o mga kinakailangan sa proseso, i.e., mga pagkakaiba-iba sa disenyo ng suporta sa gilid, lokasyon ng mga puwang, at pag-mount ng pagsasaayos. Ang aming mga taga -disenyo ay nagtatrabaho sa mga OEM at FAB upang magbigay ng pinakamataas na pagganap na posible para sa bawat paggamit.

Mga Aplikasyon:

• LPCVD / PECVD / APCVD
• Mga proseso ng paglago ng epitaxial
• Pagsasabog ng mga hurno
• Mataas na temperatura na pagsusubo
• Iba pang mga sistema ng pagproseso ng thermal ng semiconductor

Ang bawat 8-inch waferholder singsing ay sumasailalim sa mahigpit na inspeksyon tulad ng pag-verify ng katumpakan ng dimensyon, pagsubok ng pagdirikit ng patong, at kwalipikasyon ng thermal cycling. Tinitiyak ng aming advanced na teknolohiya sa pagmamanupaktura ang pantay na kapal ng patong ng SIC at pinakamahusay na pagtatapos ng ibabaw upang matupad ang mataas na hinihingi ng industriya ng semiconductor.

Ang Semicorex 8-inch waferholder singsing (SIC-coated grapayt) ay isang mahalagang kagamitan para sa susunod na henerasyon na semiconductor na paggawa, na nagbibigay ng mekanikal na katumpakan, tibay ng materyal, at katatagan ng kemikal. Mula sa mga pag-upgrade ng kagamitan sa proseso hanggang sa pagtatayo ng mga susunod na henerasyon na mga platform ng wafer, ang produktong ito ay nag-aalok ng pagiging maaasahan at pagganap na kinakailangan upang paganahin ang hinihingi na mga kapaligiran sa paggawa ngayon.