Aluminyo nitride heaters

Ang Semicorex aluminyo nitride heaters ay state-of-the-art ceramic heating elemento na idinisenyo para sa mga aplikasyon na humihiling ng mataas na thermal conductivity, electrical pagkakabukod, at pambihirang tibay. Inhinyero mula sa aluminyo nitride ceramic, ang mga heaters na ito ay nagbibigay ng mabilis at pantay na pag-init, na ginagawang perpekto para sa mga high-precision na kapaligiran tulad ng pagproseso ng semiconductor, medikal na diagnostic, at advanced na analytical na instrumento.

Ang mga heaters ng nitride ng aluminyo ay mga pangunahing sangkap sa semiconductor manipis na kagamitan sa pag -aalis ng pelikula. Diretso silang inilalapat sa proseso ng silid at sa direktang pakikipag -ugnay sa wafer. Hindi lamang nila dinadala ang wafer, ngunit tinitiyak din na ang wafer ay nakakakuha ng a 

matatag at pantay na temperatura ng proseso. Ang tampok na ito ay mahalaga para sa mga reaksyon na may mataas na katumpakan sa ibabaw ng wafer at ang henerasyon ng pantay na manipis na pelikula.

Karaniwan, ang mga heaters ng nitride ng aluminyo ay nagsasama ng isang ceramic substrate na may isang wafer loading surface at isang cylindrical na suporta sa katawan na sumusuporta sa likod. Bilang karagdagan sa isang resistive circuit circuit para sa pag -init, isang RF electrode at isang electrostatic chuck electrode at iba pang mga conductor ay ibinibigay din sa loob o sa ibabaw ng ceramic substrate.

Ang manipis na kagamitan sa pag -aalis ng pelikula ay karaniwang gumagamit ng mga materyales na ceramic batay saaluminyo nitride (ALN)Dahil nagsasangkot ito ng isang mataas na temperatura na kapaligiran. Ang dahilan kung bakit ang mga heaters ng nitride ng aluminyo ay pinapaboran sa pagmamanupaktura ng semiconductor ay higit sa lahat dahil sa kanilang natatanging mga katangian ng pisikal at kemikal. Ang aluminyo nitride ay hindi lamang may mataas na thermal conductivity at maaaring makamit ang mabilis na pag -init at paglamig sa isang maikling panahon, ngunit mayroon ding mahusay na pagkakabukod at lakas ng mekanikal, tinitiyak ang katatagan at pagiging maaasahan ng pampainit. Bilang karagdagan, ang thermal expansion coefficient ng aluminyo nitride ay katulad ng sa silikon, na tumutulong upang mabawasan ang epekto ng thermal stress sa wafer at pagbutihin ang ani ng proseso.

Pangkalahatang nagsasalita,ceramic heaterspangunahing ginagamit sa manipis na kagamitan sa pag -aalis ng pelikula. Dahil nagsasangkot ito ng mga proseso ng mataas na temperatura, ang ceramic material na ginamit ay pangunahing aluminyo nitride; Ang mga electrostatic chuck ay pangunahing ginagamit sa mga kagamitan sa etching, at ang ceramic material na ginamit ay pangunahing aluminyo oxide. Sa pag -unlad ng teknolohiya ng semiconductor, mayroong isang overlap sa pagitan ng mga ceramic heaters at electrostatic chuck. Halimbawa, ang mga ceramic heaters na ginamit sa manipis na kagamitan sa pag-aalis ng pelikula ay nilagyan ng mga electrostatic chuck, na mayroong dalawahang pag-andar ng high-temperatura na pag-init at electrostatic adsorption. Ang mga electrostatic chuck na ginamit sa mga kagamitan sa etching ay nagsisimula ring kasangkot sa mga proseso ng mataas na temperatura, at ang ceramic material ay dapat mabago mula sa aluminyo oxide hanggang aluminyo nitride.