Makakatiyak kang bumili ng ICP Etching Carrier mula sa aming pabrika at iaalok namin sa iyo ang pinakamahusay na serbisyo pagkatapos ng pagbebenta at napapanahong paghahatid. Ang semicorex wafer susceptor ay gawa sa silicon carbide coated graphite gamit ang chemical vapor deposition (CVD) na proseso. Ang materyal na ito ay nagtataglay ng mga natatanging katangian, kabilang ang mataas na temperatura at paglaban sa kemikal, mahusay na paglaban sa pagsusuot, mataas na thermal conductivity, at mataas na lakas at higpit. Ang mga katangiang ito ay ginagawa itong isang kaakit-akit na materyal para sa iba't ibang mga application na may mataas na temperatura, kabilang ang Inductively Coupled Plasma(ICP) Etching system.
Nagbibigay kami ng customized na serbisyo, tulungan kang mag-innovate gamit ang mga bahagi na mas tumatagal, bawasan ang mga oras ng pag-ikot, at pagbutihin ang mga ani.
Ang ICP Etching Carrier Plate ng Semicorex ay ang perpektong solusyon para sa hinihingi na paghawak ng wafer at mga proseso ng thin film deposition. Ang aming produkto ay nagbibigay ng mahusay na init at corrosion resistance, kahit na thermal uniformity, at laminar gas flow patterns. Sa malinis at makinis na ibabaw, ang aming carrier ay perpekto para sa paghawak ng malinis na mga wafer.
Magbasa paMagpadala ng InquiryAng Wafer Holder ng Semicorex para sa Proseso ng Pag-ukit ng ICP ay ang perpektong pagpipilian para sa hinihingi na paghawak ng wafer at mga proseso ng deposition ng manipis na pelikula. Ipinagmamalaki ng aming produkto ang mahusay na paglaban sa init at kaagnasan, kahit na pagkakapareho ng thermal, at pinakamainam na pattern ng daloy ng laminar gas para sa pare-pareho at maaasahang mga resulta.
Magbasa paMagpadala ng InquiryAng ICP Silicon Carbon Coated Graphite ng Semicorex ay ang mainam na pagpipilian para sa hinihingi na paghawak ng wafer at manipis na mga proseso ng deposition ng pelikula. Ipinagmamalaki ng aming produkto ang mahusay na paglaban sa init at kaagnasan, kahit na pagkakapareho ng thermal, at pinakamainam na pattern ng daloy ng laminar gas.
Magbasa paMagpadala ng InquiryPiliin ang ICP Plasma Etching System ng Semicorex para sa Proseso ng PSS para sa mataas na kalidad na mga proseso ng epitaxy at MOCVD. Ang aming produkto ay partikular na ininhinyero para sa mga prosesong ito, na nag-aalok ng mahusay na init at paglaban sa kaagnasan. Sa malinis at makinis na ibabaw, ang aming carrier ay perpekto para sa paghawak ng malinis na mga wafer.
Magbasa paMagpadala ng InquiryAng ICP Plasma Etching Plate ng Semicorex ay nagbibigay ng napakahusay na init at paglaban sa kaagnasan para sa paghawak ng wafer at mga proseso ng pagdeposito ng manipis na pelikula. Ang aming produkto ay ininhinyero upang makatiis sa mataas na temperatura at malupit na paglilinis ng kemikal, na tinitiyak ang tibay at mahabang buhay. Sa malinis at makinis na ibabaw, ang aming carrier ay perpekto para sa paghawak ng malinis na mga wafer.
Magbasa paMagpadala ng InquiryNaghahanap ng maaasahang wafer carrier para sa mga proseso ng pag-ukit? Huwag nang tumingin pa sa Silicon Carbide ICP Etching Carrier ng Semicorex. Ang aming produkto ay ininhinyero upang makatiis sa mataas na temperatura at malupit na paglilinis ng kemikal, na tinitiyak ang tibay at mahabang buhay. Sa malinis at makinis na ibabaw, ang aming carrier ay perpekto para sa paghawak ng malinis na mga wafer.
Magbasa paMagpadala ng Inquiry