Patong sa thermal field ng semiconductor silicon single crystals

Ang mga pinahiran na bahagi sa semiconductor silicon na solong kristal na mainit na field ay karaniwang pinahiran ng pamamaraan ng CVD, kabilang ang pyrolytic carbon coating,Silicon Carbide coatingatTantalum Carbide coating, bawat isa ay may iba't ibang katangian.

Karaniwang mga punto: ang substrate ay high-purity isostatic graphite, sa pangkalahatan ay mas mababa sa 5ppm ash; ang patong ay ginagamit na paraan ng CVD; ang patong ay karaniwang 100% carbon o Silicon Carbide; pagkatapos ng patong sa ibabaw ay medyo siksik, ang gas, lalo na ang pugon silikon singaw o silikon oksido gas ay maaaring karaniwang hinarangan; ang sarili nitong dust volatilization ay napakaliit din.

Pagkakaiba: ang karaniwang kapal ng patong, pyrolytic carbon patong ay karaniwang tungkol sa 40um; Ang Silicon Carbide coating ay karaniwang ginagawa tungkol sa 100um, ngunit ayon sa iba't ibang pangangailangan ng mga customer, maaaring gawin ang 30um~150um, kabilang ang isang coating at dalawang coatings; Ang tantalum carbide coating ay karaniwang 35±15um.

Pyrolytic carbon coating, ang density nito ay katumbas ng non-porous graphite, na humigit-kumulang 2.2. Ito ay may mababang resistivity at mataas na thermal conductivity sa parallel na direksyon ng ibabaw, upang mapanatili nito ang pagkakapare-pareho ng temperatura sa ibabaw, at mayroon din itong mababang koepisyent ng thermal expansion at isang mataas na modulus ng elasticity. Sa patayong direksyon ng ibabaw, ang koepisyent ng thermal expansion ay mas malaki at ang thermal conductivity ay mas mababa.

Para sa mga produktong pinahiran ng Silicon Carbide, ang elastic modulus ng coating ay napakataas, sampu-sampung beses na mas mataas kaysa sa elastic modulus ng internal graphite substrate, kaya upang maiwasan ang pagkasira ng produkto, kailangan itong hawakan nang malumanay.

Pyrolytic carbon coating at Silicon Carbide coating ng lahat ng impurity content ay mas mababa sa 5ppm, kung saan ang pangunahing elemento ng metal na nilalaman ay mas mababa sa 0.1 o 0.01ppm, ang mas mahirap na makitungo sa elemento ng boron ay 0.01 o 0.15ppm.

Nag-aalok ang Semicorex ng de-kalidad na produkto ng CVD coating para sa semiconductor na may customized na serbisyo. Kung mayroon kang anumang mga katanungan o kailangan ng karagdagang mga detalye, mangyaring huwag mag-atubiling makipag-ugnayan sa amin.

Makipag-ugnayan sa telepono # +86-13567891907

Email: sales@semicorex.com