> Mga produkto

Mga produkto

bagong produkto

View as

ICP Plasma Etching Tray

Ang ICP Plasma Etching Tray ng Semicorex ay partikular na ininhinyero para sa mataas na temperatura na mga proseso ng paghawak ng wafer gaya ng epitaxy at MOCVD. Sa isang matatag, mataas na temperatura na oxidation resistance na hanggang 1600°C, ang aming mga carrier ay nagbibigay ng kahit na thermal profile, laminar gas flow pattern, at pinipigilan ang kontaminasyon o impurities diffusion.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

ICP Plasma Etching System

Ang SiC Coated carrier ng Semicorex para sa ICP Plasma Etching System ay isang maaasahan at cost-effective na solusyon para sa mga proseso ng high-temperature na paghawak ng wafer tulad ng epitaxy at MOCVD. Nagtatampok ang aming mga carrier ng pinong SiC crystal coating na nagbibigay ng mahusay na paglaban sa init, kahit na pagkakapareho ng thermal, at matibay na paglaban sa kemikal.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

Inductively-Coupled Plasma (ICP)

Ang silicon carbide coated susceptor ng Semicorex para sa Inductively-Coupled Plasma (ICP) ay partikular na idinisenyo para sa mga proseso ng high-temperature na paghawak ng wafer gaya ng epitaxy at MOCVD. Sa isang matatag, mataas na temperatura na oxidation resistance na hanggang 1600°C, tinitiyak ng aming mga carrier ang kahit na thermal profile, laminar gas flow pattern, at maiwasan ang kontaminasyon o impurities diffusion.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

ICP Etching Wafer Holder

Ang ICP etching wafer holder ng Semicorex ay ang perpektong solusyon para sa mataas na temperatura na mga proseso ng paghawak ng wafer gaya ng epitaxy at MOCVD. Sa isang matatag, mataas na temperatura na oxidation resistance na hanggang 1600°C, tinitiyak ng aming mga carrier ang kahit na mga thermal profile, mga pattern ng daloy ng laminar gas, at pinipigilan ang kontaminasyon o pagkalat ng mga impurities.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

ICP Etching Carrier Plate

Ang ICP Etching Carrier Plate ng Semicorex ay ang perpektong solusyon para sa hinihingi na paghawak ng wafer at mga proseso ng thin film deposition. Ang aming produkto ay nagbibigay ng mahusay na init at corrosion resistance, kahit na thermal uniformity, at laminar gas flow patterns. Sa malinis at makinis na ibabaw, ang aming carrier ay perpekto para sa paghawak ng malinis na mga wafer.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

Wafer Holder para sa ICP Etching Process

Ang Wafer Holder ng Semicorex para sa Proseso ng Pag-ukit ng ICP ay ang perpektong pagpipilian para sa hinihingi na paghawak ng wafer at mga proseso ng pagdeposito ng manipis na pelikula. Ipinagmamalaki ng aming produkto ang mahusay na paglaban sa init at kaagnasan, kahit na pagkakapareho ng thermal, at pinakamainam na pattern ng daloy ng laminar gas para sa pare-pareho at maaasahang mga resulta.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

<...135 136 137 138 139...144 >