Mga produkto

Makakatiyak kang bumili ng Solid SiC Etching Ring mula sa aming pabrika. Ang Semicorex ay nagbibigay ng mataas na kalidad na reinforced carbon-carbon composite na may customized na serbisyo. Ang Semicorex ay nakatuon sa pagbibigay ng mga de-kalidad na produkto sa mapagkumpitensyang presyo, inaasahan naming maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Ang Semicorex ay nagbibigay ng mataas na kalidad na CVD SiC Etching Ring Silicon Carbide na may customized na serbisyo. Ang Semicorex ay nakatuon sa pagbibigay ng mga de-kalidad na produkto sa mapagkumpitensyang presyo, inaasahan naming maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Ang ICP Plasma Etching Tray ng Semicorex ay partikular na ininhinyero para sa mataas na temperatura na mga proseso ng paghawak ng wafer gaya ng epitaxy at MOCVD. Sa isang matatag, mataas na temperatura na oxidation resistance na hanggang 1600°C, ang aming mga carrier ay nagbibigay ng kahit na thermal profile, laminar gas flow pattern, at pinipigilan ang kontaminasyon o impurities diffusion.

Ang SiC Coated carrier ng Semicorex para sa ICP Plasma Etching System ay isang maaasahan at cost-effective na solusyon para sa mga proseso ng high-temperature na paghawak ng wafer tulad ng epitaxy at MOCVD. Nagtatampok ang aming mga carrier ng pinong SiC crystal coating na nagbibigay ng mahusay na paglaban sa init, kahit na pagkakapareho ng thermal, at matibay na paglaban sa kemikal.

Ang ICP etching wafer holder ng Semicorex ay ang perpektong solusyon para sa mataas na temperatura na mga proseso ng paghawak ng wafer gaya ng epitaxy at MOCVD. Sa isang matatag, mataas na temperatura na oxidation resistance na hanggang 1600°C, tinitiyak ng aming mga carrier ang kahit na mga thermal profile, mga pattern ng daloy ng laminar gas, at pinipigilan ang kontaminasyon o pagkalat ng mga impurities.

Ang ICP Etching Carrier Plate ng Semicorex ay ang perpektong solusyon para sa hinihingi na paghawak ng wafer at mga proseso ng thin film deposition. Ang aming produkto ay nagbibigay ng mahusay na init at corrosion resistance, kahit na thermal uniformity, at laminar gas flow patterns. Sa malinis at makinis na ibabaw, ang aming carrier ay perpekto para sa paghawak ng malinis na mga wafer.