SiC-Coated Epitaxial Susceptors

Ang Semicorex SiC-coated epitaxial susceptors ay ang mga mahahalagang sangkap na ginagamit sa proseso ng paglago ng semiconductor epitaxial upang matatag na suportahan at ayusin ang mga semiconductor wafer. Ang paggamit ng mga mature na kakayahan sa pagmamanupaktura at makabagong teknolohiya sa produksyon, ang Semicorex ay nakatuon sa pagbibigay ng kalidad na nangunguna sa merkado at mapagkumpitensyang presyo na SiC-coated epitaxial susceptor para sa aming mga pinahahalagahang customer.

Magpadala ng Inquiry

Paglalarawan ng Produkto

Semiconductormga substratehindi maaaring direktang ilagay sa base sa MOCVD o CVD na kagamitan sa panahon ng epitaxial deposition dahil sa epekto ng maraming kritikal na salik, kabilang ang direksyon ng daloy ng gas (pahalang at patayo), temperatura, presyon, pag-aayos ng substrate, at kontaminasyon ng particulate. Para sa kadahilanang ito, ang mga epitaxial susceptor ay kinakailangang iposisyon sa gitna ng silid ng reaksyon sa mga sistema ng MOCVD/CVD upang suportahan at ma-secure ang mga substrate ng semiconductor, kaya pinipigilan ang pagkasira ng kalidad ng paglago ng epitaxial na dulot ng vibration o positional displacement.

Ang high-purity graphite ay ginagamit bilang materyal ng matrix para sa SemicorexSiC-coated epitaxial susceptors, na may silicon carbide coating na idineposito sa kanilang ibabaw ng mga advanced na diskarte sa CVD. Ang Semicorex SiC-coated epitaxial susceptors ay ang kailangang-kailangan na mga bahagi sa proseso ng pagbuo ng epitaxial layer. Ang kanilang pangunahing tungkulin ay upang magbigay ng isang matatag at nakokontrol na operating environment para sa paglaki ng mga epitaxial layer sa semiconductor substrates, na sa gayon ay masisiguro ang pagkakapare-pareho ng kalidad ng wafer surface.

Ang mga katangian ng Semicorex SiC-coated epitaxial susceptors

1. Natitirang paglaban sa mataas na temperatura upang mapaglabanan ang 1600 ℃ na mga kondisyon ng pagpapatakbo.

2. Mataas na thermal conductivity, naghahatid ng mabilis na paglipat ng init upang mapanatili ang pare-parehong pamamahagi ng temperatura sa mga substrate ng semiconductor.

3. Malakas na paglaban sa kaagnasan ng kemikal upang labanan ang pagkasira ng kemikal at kaagnasan, pag-iwas sa proseso ng kontaminasyon ng mga substrate at epitaxial layer.

4. Superior thermal shock resistance upang maiwasan ang paglitaw ng coating cracking at delamination.

5. Pambihirang patag na ibabaw, angkop na angkop sa mga substrate na nagpapaliit ng mga puwang at mga depekto.

6. Mas mahabang buhay ng serbisyo, binabawasan ang oras at pagkalugi sa ekonomiya na dulot ng pagpapalit at pagpapanatili ng mga piyesa.

Ang mga aplikasyon ng Semicorex SiC-coated epitaxial susceptors

Sa maramihang mahusay na mga pakinabang, ang Semicorex SiC-coated epitaxial susceptors ay gumaganap ng isang mahalagang papel sa pagpapadali ng pare-pareho at nakokontrol na paglaki ng mga epitaxial thin film at malawak na inilalapat sa semiconductor epitaxial growth na proseso.

1.GaN epitaxial growth

2.SiC epitaxial paglago

3.Si epitaxial paglago