SiC Coated Support Ring

Ang Semicorex SiC Coated Support Ring ay gumaganap ng isang kritikal na papel sa pagtiyak ng katumpakan at kalidad ng mga epitaxial layer na idineposito sa mga semiconductor wafer.

Ang SiC coated support ring ay nagbibigay ng matibay na protective layer na lumalaban sa matinding temperatura at corrosive na kapaligiran na karaniwan sa mga epitaxial growth reactor. Tinitiyak ng superior thermal properties ng SiC ang pare-parehong pamamahagi ng temperatura sa ibabaw ng wafer, na pinapaliit ang mga thermal gradient at stress. Ang katatagan na ito ay mahalaga para sa pagkamit ng mataas na kalidad na mga epitaxial layer na may kaunting mga depekto.

Ang SiC coated support ring ay lumalaban sa mga pag-atake ng kemikal mula sa mga reaktibong gas na ginagamit sa proseso ng epitaxial, na nagpapahaba sa buhay ng operasyon ng support ring at nagpapanatili ng integridad ng proseso. Binabawasan ng paglaban na ito ang mga panganib sa kontaminasyon, na nag-aambag sa mas mataas na kadalisayan at mas mahusay na pagganap ng mga aparatong semiconductor.

Ang SiC Coated Support Ring ay nagpapanatili ng tumpak na pagpoposisyon ng wafer, kritikal para sa pare-parehong pag-deposito ng layer. Ang SiC coated support ring's structural integrity sa ilalim ng mataas na temperatura ay nagsisiguro ng pare-parehong performance sa maraming mga cycle ng pagproseso.

Ang Semicorex SiC Coated Support Ring ay isang mahalagang bahagi sa pagsulong ng teknolohiyang semiconductor, na tinitiyak ang paggawa ng mga de-kalidad na device na may pinakamainam na pagganap at pagiging maaasahan.