Silicon Shield Ring

Ang Semicorex Silicon Shield Ring ay isang kritikal na sangkap na semiconductor sa proseso ng etching. Ang pangunahing pag -andar nito ay upang palibutan ang elektrod at maiwasan ang labis na pagtagas ng plasma. Sa isang materyal na kadalisayan na lumampas sa 9N (99.9999999%), ang singsing ng kalasag ay maaaring gawin ng parehong single-crystal at multi-crystalsilikon, tinitiyak ang operasyon ng ultra-malinis at maaasahang pagiging tugma sa mga advanced na proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor.

Ang tumpak na kontrol ng plasma sa proseso ng CCP/ICP etching ay mahalaga para sa epektibo, pantay na rate ng etch, at kalidad ng wafer. Ang hindi makontrol na pagtagas ng plasma sa labas ng nais na etching area ay maaaring lumikha ng pagguho ng ibabaw at kontaminasyon o masira ang mga sangkap sa loob ng silid. Ang singsing ng Silicon Shield ay isang epektibo, simpleng solusyon sa problemang ito, nilikha upang makabuo ng isang proteksiyon na hadlang sa labas ng perimeter ng elektrod, naglalaman ng plasma mula sa pagkalat sa labas ng target na lugar at paghihigpit sa pag -etching sa nais na lugar lamang. Ang singsing ng kalasag ng silikon ay kumikilos din bilang isang panlabas na elektrod upang patatagin ang pamamahagi ng plasma at paganahin ang higit na pantay na enerhiya sa ibabaw ng wafer.

Ang thermal at elektrikal na mga katangian ng silikon ay karagdagang sumusuporta sa pagganap ng singsing ng etching na kalasag. Ang paglaban nito sa mataas na proseso ng temperatura ay nagbibigay ng integridad ng istruktura sa panahon ng matagal na pagkakalantad ng plasma, at ang elektrikal na kondaktibiti nito ay nagbibigay -daan sa sangkap na gumana nang maayos bilang isang elemento sa sistema ng elektrod. Sama -sama, ang mga application na ito ay nagpapaganda ng pagkakulong ng plasma at pagbutihin ang pagkakapareho ng enerhiya, na nagbibigay -daan sa mga paulit -ulit na profile ng etch sa buong mga wafer.

Ang mekanikal na pagpapaubaya ay isa pang kilalang katangian ng singsing na Silicon etching Shield. Sa pamamagitan ng paggawa sa masikip na pagpapaubaya, tinitiyak nito ang tumpak na pagpoposisyon sa paligid ng elektrod at pinapanatili ang spacing at geometry ng silid. Ang mekanikal na katumpakan na ito ay bumubuo ng paulit-ulit na mga kondisyon ng proseso para sa mas kaunting pagkakaiba-iba sa pagitan ng mga indibidwal na tumatakbo, at tumutulong na payagan ang paggawa ng mataas na dami ng semiconductor. Ang materyal mismo ay may mahusay na pagiging tugma sa mga kapaligiran ng plasma; Samakatuwid ang pag -aalis ng istraktura nito ay nagbibigay -daan sa karaniwang magbigay ng mahabang buhay ng serbisyo at katatagan sa pagganap ng proseso.

Ang tibay at pagiging epektibo ng gastos ay dalawang mas mahalagang benepisyo. Sa pamamagitan ng pagprotekta ng mga hindi kinakailangang mga seksyon ng silid mula sa plasma, ang singsing ng kalasag ay binabawasan ang pagsusuot sa iba pang mga kritikal na sangkap, na binabawasan ang mga pagsisikap sa pagpapanatili at pinatataas ang pangkalahatang uptime ng pagpapatakbo. Ang mahabang buhay ng serbisyo at hindi gaanong madalas na kapalit ay ginagawang isang epektibong solusyon sa gastos para sa mga semiconductor fab upang madagdagan ang pagiging produktibo at sa gayon mabawasan ang mga gastos sa operating.

AngSilikonAng singsing ng Shield ay maaari ring ipasadya para sa bawat pagsasaayos ng tool at mga pagtutukoy ng proseso dahil magagamit ito sa maraming laki at geometry upang mapaunlakan ang maraming iba't ibang mga silid ng plasma etching na gumagawa, habang nakakamit pa rin ang pinakamainam na akma. Bilang karagdagan, ang mga paggamot sa ibabaw at buli ay maaaring magamit upang higit na mabawasan ang henerasyon ng butil para sa mga pamantayan sa pagmamanupaktura ng ultra-malinis.