Alumina ceramic arm

Ang Semicorex alumina ceramic arm ay isang sangkap na inhinyero na binuo sa pinakamataas na mga pagtutukoy para sa mga aplikasyon ng semiconductor. Ginawa mula sa mataas na kadalisayan na alumina (al₂o₃), ito ay isang robotic braso na nagtatampok ng isang natatanging kumbinasyon ng mekanikal na lakas, thermal stability at paglaban sa kemikal. Ang braso ay hindi lamang idinisenyo upang magamit para sa paghawak ng wafer na nag -iisa ngunit kailangan ding magbigay ng suporta sa proseso sa mga advanced na site ng katha. Dapat ding tiyakin na ang mga wafer ay inilipat, nakaposisyon at naproseso nang walang kontaminasyon o pinsala; pagpapabuti ng mga ani at pagiging maaasahan ng proseso.

Aluminaay isa sa mga teknikal na keramika na nakakahanap ng pinakamalawak na paggamit sa larangan ng teknikal na ceramic. Kilala ang alumina para sa tigas nito, pagsusuot ng pagsusuot, at katatagan sa mga agresibong kapaligiran. Para sa mga layunin ng braso ng ceramic upang pamahalaan ang paghawak ng wafer nang hindi nagpapakilala ng kontaminasyon, maaari itong samantalahin ang mga katangian ng alumina at maghatid ng mas mataas na antas ng paglaban sa pag -abrasion bilang isang bunga ng mataas na kadalisayan at laki ng butil; Samakatuwid, hindi ito bubuo ng labis na mga particle sa panahon ng paulit -ulit na paggalaw nito, alinman sa mga wafer o sa mga semiconductor substrates ng anumang iba pang uri.  Ang density at mababang porosity na nagho-host din ito ng karagdagang limitasyon ng potensyal ng mga particle na lumalaya, at tinitiyak na nakakatugon ito sa mga ultra-malinis na mga kinakailangan ng mga semiconductor development fabs nang walang pag-iwas mula sa kalinisan na kinakailangan para sa paghawak ng aparato ng submicron.

Aluminanagtataglay ng pambihirang thermal katatagan bilang karagdagan sa mekanikal na lakas nito. Ang alumina ceramic braso ay maaaring magtiis ng matinding temperatura ng proseso nang walang pag -war, pag -crack, o pagkawala ng lakas. Ang pag -aari na ito ay ginagawang perpekto para sa pagsasama sa anumang hakbang na proseso na may kasamang pagkakalantad sa nakataas na temperatura, tulad ng pagsasabog, oksihenasyon, o mga hakbang sa anneal. Ang mga wafer ay mapabuti ang pagiging maaasahan para sa paglipat sa isang mapaghamong proseso ng kapaligiran dahil pinapanatili nito ang mekanikal na integridad sa ilalim ng thermal cycling.

Ang paglaban sa kemikal ay isa pang pangunahing positibo ng alumina ceramic arm. Sa pagmamanupaktura ng semiconductor, ang mga paggamot ay madalas na isinasagawa sa mga wafer na kasama ang mga malakas na acid, alkalis, at iba pang mga agresibong kemikal. Habang ang mga sangkap na metal ay maaaring mag -corrode o leach impurities, ang alumina ay chemically inert, na pinoprotektahan ang integridad ng parehong braso at ang mga wafer na pinangangasiwaan nito. Samakatuwid ang pagkawalang -kilos ay nagpapatagal ng habang -buhay ng sangkap habang binabawasan ang posibilidad ng kontaminasyon sa panahon ng mga kritikal na hakbang sa proseso tulad ng basa na paglilinis o pag -aalis ng singaw ng kemikal.

Ang alumina ceramic braso ay dinisenyo na may pagtuon sa pagiging tugma at katumpakan. Ang bawat braso ay ginawa sa masikip na dimensional na pagpapaubaya, tinitiyak ang tumpak na pagkakahanay ng wafer at paggalaw at pagiging tugma sa mga awtomatikong kagamitan sa paghawak ng wafer at mga robotic system. Ang makinis, makintab na pagtatapos ng ibabaw ay nagtatampok ng isang mababang interface ng friction na may wafer na binabawasan ang pagkakataon na kumamot sa wafer, na mahalaga para sa integridad ng wafer/kalinisan ng kapaligiran at pagbabawas ng rate ng depekto. Ang mga inhinyero na ito ay matiyak na ang braso ay malayang nagpapatakbo sa isang mabilis na mataas na throughput na kapaligiran at nagbibigay-daan para sa parehong tao at ganap na awtomatikong semiconductor workflows para sa braso.

Ang alumina ceramic braso ay umabot sa kabila lamang ng kemikal at mekanikal na pagganap at nakakaapekto sa kahusayan sa pagpapatakbo at pagtitipid ng gastos sa maraming antas. Ang napatunayan na matibay na likas na katangian ng ceramic ay nagbibigay -daan sa braso sa outperform composite na mga materyales tulad ng plastik o aluminyo sa mga tuntunin ng kahabaan ng disenyo sa ilalim ng paulit -ulit na pag -load ng mekanikal, at samakatuwid ay binabawasan ang dami ng pagpapatakbo ng downtime at/o mga gastos sa kapalit na kasangkot. Ang kakayahang makatiis sa mga malupit na kapaligiran ay may kasamang kalinisan sa kapaligiran, habang ang paggawa din ng mas kaunting mga pagkagambala sa pagmamanupaktura na humahantong sa pinabuting pare -pareho na paggawa ng wafer, i.e. ani, at sa huli ay hindi gaanong scrap na humahantong sa isang mas mataas na ROI (pagbabalik sa pamumuhunan) para sa mga tagagawa ng semiconductor.

Ang mga pagpipilian para sa paggamit ngAlumina ceramicAng braso para sa mga proseso ng semiconductor ay halos walang katapusang - mula sa paglipat ng mga wafer sa pagitan ng mga basa na bangko, mga hurno ng pagsasabog at mga silid ng pag -aalis sa pag -inspeksyon at mga tool ng metrolohiya na gumagamit ng mga substrate. Ang kakayahang umangkop ng produktong ito ay hindi lamang pinapayagan itong magamit para sa mga aplikasyon ng paghawak ng wafer, ngunit ang karagdagang mga sitwasyon sa automation kung saan kinakailangan ang kawastuhan, kalinisan at pagiging maaasahan. Ang industriya ng semiconductor ay gumagalaw nang hindi maipalabas patungo sa mas maliit na mga node at nadagdagan ang pagiging kumplikado sa loob ng katha ng aparato, at habang ang industriya ay patuloy na humihiling ng mas mahusay na paghawak ng mga solusyon na maaasahan at hindi kontaminado, ang ceramic robotic braso ay lumilikha ng isang malinaw na landas pasulong.