Barrel Susceptor na may SiC Coating

Ang Semicorex Barrel Susceptor na may SiC Coating ay isang cutting-edge na solusyon na idinisenyo upang pataasin ang kahusayan at katumpakan ng mga proseso ng silicon na epitaxial. Ginawa nang may masusing atensyon sa detalye, ang Barrel Susceptor na ito na may SiC Coating ay iniakma upang matugunan ang mga hinihinging pangangailangan ng paggawa ng semiconductor, na nagsisilbing pinakamainam na may hawak ng wafer at pinapadali ang tuluy-tuloy na paglipat ng init sa mga wafer. Ang Semicorex ay nakatuon sa pagbibigay ng mga de-kalidad na produkto sa mapagkumpitensyang presyo, inaasahan naming maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Magpadala ng Inquiry

Paglalarawan ng Produkto

Binuo mula sa mataas na kalidad na isostatic graphite, na kilala sa pambihirang thermal conductivity at tibay nito, ginagarantiyahan ng aming Barrel Susceptor na may SiC Coating ang maaasahang pagganap at mahabang buhay sa mga pinaka-hinihingi na kapaligiran. Higit pa rito, ang Barrel Susceptor na may SiC Coating ay nagtatampok ng espesyal na Silicon Carbide (SiC) coating, na nagpapahusay sa thermal stability nito at tinitiyak ang pare-parehong pamamahagi ng heating sa ibabaw ng wafer.

Ang hugis ng barrel na disenyo ng aming Barrel Susceptor na may SiC Coating ay nag-aalok ng walang kapantay na versatility, perpektong akma para sa pagsasama sa Applied Material at LPE units. Ang makabagong pagsasaayos nito ay nag-o-optimize sa proseso ng paglago ng epitaxial, na nagpo-promote ng pare-pareho at mataas na kalidad na mga resulta sa bawat paggamit.

Mga Pangunahing Tampok sa Semicorex Barrel Susceptor na may SiC Coating:

Tinitiyak ng konstruksiyon ng isostatic graphite ang pambihirang thermal conductivity at tibay.

Ang Silicon Carbide (SiC) coating ay nagpapaganda ng thermal stability at nagtataguyod ng pare-parehong pamamahagi ng pag-init.

Ang hugis ng barrel na disenyo ay nagbibigay ng versatility at compatibility sa Applied Material at LPE units.

Na-customize upang matugunan ang mga partikular na pangangailangan ng mga proseso ng silikon na epitaxial, na ginagarantiyahan ang pinakamainam na pagganap at pagiging maaasahan.