CVD-SiC Showerhead

Ang Semicorex CVD-SiC showerhead ay nagbibigay ng tibay, mahusay na thermal management, at paglaban sa pagkasira ng kemikal, na ginagawa itong angkop na pagpipilian para sa hinihingi na mga proseso ng CVD sa industriya ng semiconductor. Ang Semicorex ay nakatuon sa pagbibigay ng mga de-kalidad na produkto sa mapagkumpitensyang presyo, inaasahan naming maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Magpadala ng Inquiry

Paglalarawan ng Produkto

Sa konteksto ng isang CVD showerhead, ang isang CVD-SiC showerhead ay karaniwang idinisenyo upang pantay na ipamahagi ang mga precursor gas sa ibabaw ng substrate sa panahon ng proseso ng CVD. Ang showerhead ay karaniwang nakaposisyon sa itaas ng substrate, at ang mga precursor na gas ay dumadaloy sa maliliit na butas o nozzle sa ibabaw nito.

Ang materyal na CVD-SiC na ginamit sa showerhead ay nag-aalok ng ilang mga pakinabang. Ang mataas na thermal conductivity nito ay nakakatulong na mawala ang init na nabuo sa panahon ng proseso ng CVD, na tinitiyak ang pare-parehong pamamahagi ng temperatura sa buong substrate. Bukod pa rito, ang kemikal na katatagan ng SiC ay nagbibigay-daan dito na makatiis ng mga kinakaing unti-unti na gas at malupit na kapaligiran na karaniwang nakatagpo sa mga proseso ng CVD.

Ang disenyo ng isang CVD-SiC showerhead ay maaaring mag-iba depende sa partikular na CVD system at mga kinakailangan sa proseso. Gayunpaman, kadalasang binubuo ito ng isang plato o hugis-disk na bahagi na may hanay ng mga butas o puwang ng precision-drilled. Ang pattern ng butas at geometry ay maingat na ininhinyero upang matiyak ang pare-parehong pamamahagi ng gas at mga rate ng daloy sa ibabaw ng substrate.