Mga produkto

Ang mga wafer carrier na ginagamit sa epixial growth at pagpoproseso ng wafer ay dapat magtiis sa mataas na temperatura at malupit na paglilinis ng kemikal. Ang Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier ay partikular na inengineered para sa mga hinihinging epitaxy equipment na application. Ang aming mga produkto ay may magandang kalamangan sa presyo at sumasaklaw sa marami sa mga merkado sa Europa at Amerika. Inaasahan naming maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Ang Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor para sa LPE Epitaxial Growth ay isang produktong may mataas na pagganap na idinisenyo upang magbigay ng pare-pareho at maaasahang pagganap sa loob ng mahabang panahon. Ang pantay na thermal profile nito, pattern ng daloy ng laminar gas, at pag-iwas sa kontaminasyon ay ginagawa itong mainam na pagpipilian para sa paglaki ng mga de-kalidad na epitaxial layer sa mga wafer chips. Ang pagiging mako-customize nito at pagiging epektibo sa gastos ay ginagawa itong isang mataas na mapagkumpitensyang produkto sa merkado.

Kung naghahanap ka ng high-performance na graphite susceptor para sa paggamit sa mga semiconductor manufacturing application, ang Semicorex SiC Coated Graphite Barrel Susceptor ay ang perpektong pagpipilian. Ang pambihirang thermal conductivity nito at mga katangian ng pamamahagi ng init ay ginagawa itong mapagpipilian para sa maaasahan at pare-parehong pagganap sa mataas na temperatura at kinakaing unti-unti na mga kapaligiran.

Sa mataas na punto ng pagkatunaw nito, paglaban sa oksihenasyon, at paglaban sa kaagnasan, ang Semicorex SiC-Coated Crystal Growth Susceptor ay ang mainam na pagpipilian para sa paggamit sa mga solong aplikasyon ng paglaki ng kristal. Ang silicon carbide coating nito ay nagbibigay ng mahusay na flatness at heat distribution properties, na ginagawa itong isang mainam na pagpipilian para sa mga kapaligiran na may mataas na temperatura.

Sa napakahusay nitong density at thermal conductivity, ang Semicorex Durable SiC-Coated Barrel Susceptor ay ang perpektong pagpipilian para sa paggamit sa mga proseso ng epitaxial at iba pang mga aplikasyon sa pagmamanupaktura ng semiconductor. Ang high-purity na SiC coating nito ay nagbibigay ng higit na mahusay na proteksyon at mga katangian ng pamamahagi ng init, na ginagawa itong mapagpipilian para sa maaasahan at pare-parehong mga resulta.

Pagdating sa pagmamanupaktura ng semiconductor, ang Semicorex High-Temperature SiC-Coated Barrel Susceptor ang nangungunang pagpipilian para sa mahusay na pagganap at pagiging maaasahan. Ang mataas na kalidad na SiC coating nito at pambihirang thermal conductivity ay ginagawa itong perpekto para sa paggamit sa kahit na ang pinaka-hinihingi ng mataas na temperatura at kinakaing unti-unti na mga kapaligiran.