CVD sic shower head

Ang Semicorex CVD SIC shower head ay ginagamit para sa CCP etching. Ang mga etcher ng CCP ay gumagamit ng dalawang kahanay na mga electrodes (isang grounded, ang iba pang konektado sa isang mapagkukunan ng kapangyarihan ng RF) upang makabuo ng plasma. Ang plasma ay pinananatili sa pagitan ng dalawang electrodes ng electric field sa pagitan nila. Ang mga electrodes at plate ng pamamahagi ng gas ay isinama sa isang solong sangkap. Ang etching gas ay pantay na na -spray sa ibabaw ng wafer sa pamamagitan ng maliliit na butas sa mga ulo ng shower ng CVD sic.Simultaneously, isang RF boltahe ay inilalapat sa showerhead (din sa itaas na elektrod). Ang boltahe na ito ay bumubuo ng isang electric field sa pagitan ng itaas at mas mababang mga electrodes, kapana -panabik na gas upang makabuo ng isang plasma. Ang disenyo na ito ay nagreresulta sa isang mas simple at mas compact na istraktura habang tinitiyak ang pantay na pamamahagi ng mga molekula ng gas at isang pantay na larangan ng kuryente, na nagpapagana ng pantay na pag -uugali ng kahit na mga malalaking wafer.

Ang mga ulo ng cvd sic shower ay maaari ring mailapat sa ICP etching. Gumagamit ang ICP etchers ng isang induction coil (karaniwang isang solenoid) upang makabuo ng isang RF magnetic field, na nakakaapekto sa kasalukuyang at plasma. Ang mga ulo ng shower shower ng CVD, bilang isang hiwalay na sangkap, ay may pananagutan sa pantay na paghahatid ng etching gas sa rehiyon ng plasma.

Ang ulo ng CVD SIC shower ay isang mataas na kadalisayan at sangkap na gawa ng katumpakan para sa kagamitan sa pagproseso ng semiconductor na pangunahing sa pamamahagi ng gas at kakayahan ng elektrod. Paggamit ng Paggawa ng Chemical Vapor Deposition (CVD), Nakakamit ang Shower Head

Al kadalisayan ng mga materyales at natitirang dimensional na kontrol na nakakatugon sa mahigpit na mga kinakailangan ng hinaharap na semiconductor manufacturing.