Diffusion Furnace Tube

Ang diffusion furnace tube ay karaniwang ginawa mula sa high-purity quartz o SiC, na parehong nagpapakita ng pambihirang thermal stability at paglaban sa mga reaksiyong kemikal. Ito ay mahalaga dahil ang diffusion furnace tube ay hindi dapat magpasok ng mga impurities sa mga semiconductor na materyales na pinoproseso. Kahit na ang pinakamaliit na dumi ay maaaring magkaroon ng makabuluhang masamang epekto sa pagganap at pagiging maaasahan ng mga gawa-gawang semiconductor na aparato.

Ang mga materyales na ginamit sa paggawa ng diffusion furnace tube ay pinili para sa kanilang mataas na kadalisayan upang maiwasan ang kontaminasyon ng mga semiconductor wafer sa panahon ng pagproseso. Ang diffusion furnace tube ay lumalaban sa matinding temperatura na nararanasan sa panahon ng pagproseso ng semiconductor nang hindi nababago o nakompromiso ang integridad ng istruktura nito. Tinitiyak nito ang pare-pareho at maaasahang pagganap sa mahabang panahon ng operasyon. Bilang karagdagan sa thermal stability, ang diffusion furnace tube ay nagpapakita rin ng paglaban sa mga corrosive effect ng mga kemikal at gas na ginagamit sa pagproseso ng semiconductor. Pinipigilan nito ang pagkasira ng tubo sa paglipas ng panahon at tinitiyak ang mahabang buhay.

Ang ilang diffusion furnace tube ay maaaring nagtatampok ng mga liner na ginawa mula sa mga espesyal na materyales upang higit na mapahusay ang kanilang pagganap o magbigay ng karagdagang proteksyon laban sa kontaminasyon o mga kemikal na reaksyon. Ang mga liner na ito ay maingat na pinili upang umakma sa mga katangian ng materyal ng tubo at ang mga tiyak na kinakailangan ng proseso ng paggawa ng semiconductor.